中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9116829 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS IIリアクターは、急速な熱処理を利用した先進的な半導体製造装置であり、生産スループットを大幅に向上させます。この最先端のツールは、エピタキシーと複合膜の沈着を目的として、業界をリードするウェーハ処理機能を提供します。シングルウェーハとバッチ構成の両方を直径8インチ（200mm）まで処理でき、ジョブごとに最大4つのウェーハキャリアと互換性があります。このツールは、いくつかの標準オプションとカスタムアップグレードオプションを提供しており、特定のアプリケーションの要件に合わせてカスタマイズすることができます。AMAT Centura DPS IIは、独自の高度なプロセスフロー・アルゴリズムを使用して、最高レベルのパフォーマンスと信頼性を保証します。また、高度な石英強化蒸着システムを備えており、プロセスの均一性と層特性を向上させています。この単位は他の沈殿の適用のために容易にカスタマイズすることができます。このツールはまた、革新的な高速ウェーハ転送マシンを提供し、ジョブランを迅速かつ効率的に完了させることができます。応用材料CENTURA DPS+IIの主な利点の1つは、高速反応時間です。これは、高度な赤外線ヒーターが正確な制御を提供し、複雑な温度安定化プロセスを必要とせずに正確かつ再現可能な温度を可能にするためです。また、ウェーハチャッキングツールを搭載しており、貴重なウェーハを損傷することなく、レイヤーの正確なアライメントと成膜を可能にします。これにより、プロセス全体の時間が大幅に短縮され、コストのかかるウェーハの修復が不要になります。CENTURA DPS+IIのもう一つの特徴は、包括的に設計された環境保護資産です。このモデルは、熱管理やフラッシングなどの複数の技術を使用して、汚染を最小限に抑え、重要なコンポーネントを乾燥させます。これにより、複数のタイプのウェーハおよびフィルムに対して完全に最適化された生産環境を確保できます。また、連動サポート構造を備えており、最高レベルの製造安定性と信頼性を提供します。さらに、製造中の不良のリスクを低減するために、大量の洗浄システムを利用できます。これらの機能はすべて、APPLIED MATERIALTS Centura DPS IIを市場で最も先進的な生産レベルの原子炉システムの1つにするために組み合わされ、高いレベルの信頼性、再現性、効率、コスト削減を提供します。大規模な生産アプリケーションに適しており、最新の半導体生産の最も厳しい要件を満たすことができます。