中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 #9379814 を販売中

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5
ID: 9379814
ウェーハサイズ: 12"
Etcher, 12" (3) Mesa chambers Axiom chamber.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS G5は、最先端のデバイス構造を可能にするように設計された究極性能の300mmシリコンウェハファミリーリアクターです。ポリシリコン、酸化物、窒化物、ケイ化物などの材料を800oCまで高温で処理するために使用されます。AMAT Centura DPS G5は、他の原子炉と比較して最適化されたウェーハスルーポットを備えています。DPC (Digital Process Control)技術を搭載しており、チャンバー環境を安定させるデジタル制御により高い再現性を実現しています。AMAT Centuraはまた、熱予算を最小限に抑え、プロセスの再現性と脱ガス時間を向上させる高速ランピング機能を誇っています。応用材料Centura DPS G5は、CVD統合のために酸化物と窒化物を触媒形態に還元するために使用される原子化プラズマを提供します。この機能により、高均一プロセスガス配分、迅速な応答時間、膜厚の精密な制御により、原子炉の生産ライン性能を向上させることができます。この原子炉はダイレクトドライブのリニアアクチュエータを備えており、高度な二層堆積プロセスの精度と再現性につながります。これらの反応はまた、高速応答RF/プラズマシリーズを使用して、優れたパージ制御を備えています。Centura DPS G5には2基板ヒーターオプションがあり、広範囲のウェーハに対して高温および高圧反応が可能です。また、DDR負荷/アンロードを特徴とする石英または窒化ホウ素サセプターを備えており、ウェーハの逆移行および空気露出を低減します。プロセスの再現性、均一性、再現性を保証するプロセスレシピ制御機能を搭載しています。また、ウェーハ間の最適な分布とプロセス性能を実現し、優れたプロセス品質を実現します。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS G5は、高性能な先進ICや半導体デバイス構造の製造に最適な信頼性の高い先進成膜システムです。その洗練されたデザインと様々なプログラム可能な機能は、今日の業界で最も先進的な堆積システムの1つになります。
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