中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DLH #9093318 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DLHは、業界で薄膜蒸着に使用されるPECVD（プラズマ強化化学蒸着）原子炉です。この原子炉は汎用性が高く、ICP （Inductively Coupled Plasma）源を利用して、生産環境における様々な材料の高速蒸着を可能にしています。PECVDプロセスは、太陽光発電アプリケーション用のフィルムの堆積、誘電体アプリケーション、金属化、増感層、保護コーティング、パターン化されたポリマーなど、多くの高度な半導体およびマイクロエレクトロニクス用途で使用されています。PECVDプロセスは、AMAT Centura DLHなどの機器で薄膜を堆積するためにガスの混合物を利用します。原子炉は、プラズマ源への電力を生成するRF発電機で構成されています。原子炉内のプラズマ源は、ガス分子が分解し反応するのを助けるためにイオン化プロセスを生成するために使用されます。このプロセスにより、基板上の堆積層が生成されます。システムで使用される電源は、RF （Radio Frequency）とDC （Direct Current）です。プラズマ生成のためのRF周波数と電力は、典型的には13.56MHZと250Wです。作成されたプラズマ力は可変であり、材料の望ましい沈着に従って調節することができます。フィルムの急速な沈着のために、より高い力は使用することができますが、部屋への損傷を防ぐために制御された方法で扱われなければなりません。APPLIED MATERIALS Centura DLHリアクターには、使用されるガスのレベルを正確に制御できるガスマスフローコントローラ（GFMC）も設置されています。これらのガスは、システム内で所望の材料沈着率を達成するために調整することができます。Centura DLHには、RFジェネレータ内に最大400°Cの温度を達成できる加熱ゾーンもあります。この温度は、生成される膜の反応速度と蒸着厚を制御するために使用することができます。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DLHの全体的な設計は信頼性が高く、複数のパスで均一な結果が得られます。チャンバーは低消費電力、運用コスト、メンテナンス要件で設計されており、誘電性および厚膜の製造において効率的です。AMAT Centura DLHは完全に自動化されたリアルタイム監視デバイスでもあり、プロセスパラメータを監視し、最適なパフォーマンスを得るために必要な調整を行うことができます。結論として、APPLIED MATERIALS Centura DLHは、生産レベルの環境で誘電性および厚膜の生産を可能にする信頼性の高い汎用性の高いPECVD炉です。この原子炉は、RF電源を使用してプラズマを生成し、またレギュレータGCMを使用して使用されるガスのレベルを制御します。低消費電力と運転コストを備えた原子炉は、マイクロエレクトロニクス業界にとって費用対効果が高く効率的なツールです。Centura DLHには自動リアルタイム監視機能もあり、最適なパフォーマンスと信頼性の高い結果を得ることができます。