中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP #114540 を販売中
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販売された
ID: 114540
Metal Etch DPSII, 8"
Software Version - E1.5
Loadlock - Versaport
Wafer Passthru and Storage - 2 slots
Chamber A - DPS II
Chamber B - DPS II
Chamber C - ASP II
Chamber D - ASP II
Chamber F - Orientor
Chamber E - Cooldown
System Monitor - 1 remote / 1 thru-wall mount
Configurable Light Tower - Direct I/O Four Color Light Tower
Controller Facilities Interface - Top AC
Controller Exhaust - Top
Robot Blade Ceramic, narrow bridge
Buffer Transport - VHP+
Manual Lid Hoist - Yes
Helium Cooling IHC with MKS MFC (dual zone)
Host Interface - HSMS
Wafer Mapping
Water Leak Det. @ Gen. Rack/Controllers Alarm
EMO (Turn to release)
Gas Panel Enclosure - High purity, 5 RA, 1.125" surface mount
Facility - Bottom feed single line drop
Gas Panel Exhaust - Top exhaust
Chamber Gas Panel Control - O2 (Golden MFC)
Gas Stick - Full Stick
Filter Type - PALL
Turbo pump - Seiko Seiki STP-2503PV
Turbo controller - STP-A2503
Gate valve - Throttling type VAT 65 series
100m Torr manometer
RF source generator - 13.56MHZ 3.0KW APEX 3013
RF source match - Navigator 3013
RF bias generator - 13.56MHZ 1.5KW APEX 1513
RF bias match - Navigator match
Auto bias : Enabled
Cathode flow switches : Yes
Chamber wall return switch : Yes
Chamber cathode chiller : SMC POU INR-244-602A
Chamber wall chiller : SMC INR-498-012C
Endpoint type - Monochrometer (USB interface/chamber located)
BCL3 line heater - watlow anafaze controller
MFC Type - Unit DNET 8565 5RA
O2 - 1000sccm
BCL3 - 200sccm
CL2 - 200sccm
NF3 - 100sccm
HCL - 100sccm
Chamber details available upon request
De-installed and Palletized/Vacuum Packed Only
Shutdown Report Available
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura APは、半導体加工のために設計されたマルチステーション、マルチチャンバープロセスリアクター装置です。バッチエッチング、蒸着、ウェットクリーンプロセス用に業界をリードする12チャンバーレイアウトを提供します。このシステムは、多層平面構造を備えており、高出力、高密度プラズマエッチングから低圧および高温蒸着まで、幅広いプロセスオプションを可能にします。AMAT Centura APは、さまざまな生産アプリケーションに適しています。オンボードプロセス制御ユニットにより、最大のプロセス制御と信頼性を保証します。そのプロセスチャンバービルダー構成はまた、お客様のプロセス要件に最も適したカスタマイズされたチャンバーアーキテクチャを可能にします。アプライドマテリアルズCentura APには、エッチプロファイルと選択性を正確かつ信頼性の高い制御を実現する高性能の誘導結合プラズマ（ICP）エッチャーが搭載されています。ターボポンプ式プロセスチャンバーは、独立した圧力と電力制御を備えているため、エッチング速度とエッチングの均一性を最適化することができます。エッチング以外の材料を含むエッチング製品は、機械上で処理することもできます。蒸着プロセスには、Centura APは堅牢で効率的な蒸着機能を備えています。このツールは、高効率、高スループット合金（HEA）技術を利用して、さまざまな薄膜に対して低温、低圧蒸着を可能にします。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura APの統合プロセス制御アセットは、使いやすさ、最大稼働時間、再現性、正確な結果を得るために設計されています。このモデルは直感的なユーザーインターフェイスとドキュメントを提供し、オペレータが迅速にスピードアップし、プロセスの最適化を確実にすることができます。この機器の機能は、動的なGUIベースのレシピローディングにも対応しているため、レシピの遷移を迅速かつ簡単に行うことができます。AMAT Centura APのオンボード診断システムにより、プロセス全体の可視性が向上し、プロセスの均一性と歩留まりが向上します。ACD/ADM （Advanced Process Control and Automatic Disturbance Monitoring）機能を搭載しており、エラーや誤った設定をすばやく検出し、是正措置を講じることができます。APPLIED MATERIALTS Centura APは、オプションのAdvanced Adaptive-Feedback Control （AFB）機能を使用して、マシンのパフォーマンスと信頼性を最適化します。この機能により、プロセス条件の変更をプロアクティブに監視および調整し、最大限の再現性と制御性を確保できます。全体として、Centura APはさまざまな生産アプリケーションに対応する柔軟で信頼性の高いプロセスリアクター資産です。その堅牢な機能により、正確で再現性のあるプロセスが可能になり、信頼性の高い一貫したウェーハ形成とパフォーマンスが可能になります。
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