中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X #9172654 を販売中
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ID: 9172654
HDP CVD System, 12"
Factory interface (FI) version: 5.3
Number of load-ports: 3EA
FI Robot type: KAWASKI with edge grip & Pre-aligner (single axis)
Mainframe type: 300mm CenturaAP mainframe
Vacuum robot type: VHP with 2 ceramic blades
LLKA: SWLL
LLKB: SWLL
Chamber configuration:
A: Ultima X HDP-CVD
B: Ultima X HDP-CVD
C: Blank
D: Ultima X HDP-CVD
Process chambers:
Ch#A/B/D : Ultima X HDP-CVD
Process: USG STI & IMD, PSVN
Gas ring & Nozzle type: 36 Ports & 1.76” ALN Nozzles
Cathode type: 300mm Dual HE ESC
RPS Type: MKS Astron RPS
Turbo pump type:
STP-XH3203P (CH A/B)
TMP-H3603LMC-A1(CH D)
Gate valve type: NorCal
RF Generator:
Top/Side: MKS ENI Spectrum (2 MHz, 11 kW)
BIAS: MKS ENI Spectrum (13.56 MHz, 11 kW)
RF Match box:
Top/Side: Local match
Bias: AE AZX72 Auto tune match Box
IHC Type: 20/20 Torr dual IHC
WTM Type: Wafer temperature monitor 4 channels
Gas pallet configuration:
(12) Stick gas pallets (CH A/B)
N2 Purge
O2: 400sccm
NF3: 400sccm
He: 600sccm
SIH4: 400sccm
H2: 1000sccm
AR:1000sccm
SiH4: 50sccm
He: 600sccm
NF3: 400sccm
NF3: 3000sccm
Ar: 3000sccm
N2 Purge
Stick gas pallets (CH D)
N2 Purge
O2
NF3
H2 1000sccm
SiH4
He 600sccm
Ar 50sccm
H2 1,000sccm
SiH4
He 600sccm
NF3
NF3
Ar 3000sccm
N2 Purge
Gas panel feed: Bottom
Exhaust: Bottom
MFCs: Unit 8565C multiflow
Valve type: Veriflo
Filter type: Millipore
Controller type: DeviceNet
Transfer pump: ALCATEL A100L iPUP (1EA)
Primary AC rack: 2EA
Facilities UPS interface
Power requirements:
200/208 VAC, 3-Phase, 400 A, 4-Wire, Frequency 50/60 Hz
2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X Reactorは誘電体および金属膜の堆積に使用される半導体デバイスです。この高性能機器は、最新の高スループットと高精度を提供し、エンジニアは幅広い材料で複雑な構造を迅速かつ正確に生成することができます。AMAT Centura AP Ultima Xには強力なPECVD（プラズマ強化化学蒸着）技術が搭載されており、誘電体および金属膜を高温で急速に堆積させることができます。直径300mmまでの大型基板サイズは、高い精度と精度で対応可能です。また、低圧、中周波、高出力、低負荷の組み合わせにより、蒸着速度が大幅に向上します。このシステムには、高度な制御および監視ユニットが付属しており、ユーザーはフィルムの沈着を密接に監視することができます。機械は基質の適合のレベルを検出し、スパッタリングの異なったレベルの間で転換する機能と高い適合性および均等性のフィルムの沈殿を可能にします。このツールは、大容量のガス供給資産を使用して迅速なガス供給を行い、より高いスループットを実現します。これにより、起動時間が短縮され、オペレータが迅速にプロセスを開始できるようになります。容易にアクセスでき、プログラム可能な3ゾーンプロセス部屋によって、エンジニアは理想的な均等性および適合性の丈夫な、信頼できるフィルムを作り出すことができます。APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima Xは優れた精度と信頼性を備えており、正確で一貫した結果を得ることができます。自動キャリブレーションモデルを導入することで、製造された結果が常に望ましい要件を満たすことが保証されます。さらに、機器のモジュール設計により、メンテナンスとアップグレードが容易になります。全体として、Centura AP Ultima X Reactorは複雑な構造を迅速かつ正確に作成するために使用できる高度なデバイスです。このデバイスは、幅広い機能を備えているため、エンジニアは絶縁膜と金属膜を高精度で一貫性のある迅速な堆積が可能です。
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