中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X #9162819 を販売中
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販売された
ID: 9162819
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2005
HDP-CVD System, 12"
System SW Rev.: 3.7_31
Factory interface (FI)
(2) 12" FOUP Load-ports
Enhanced 25-slot FOUP support
8-Slot wafer Pass-Thru / Storage
Hermos with RF E99 carrier ID
Upper E84 sensors & cables
Overhead transport WIP delivery system (OHT)
Wafer handling robots: (2) Kawasaki with Edge Grip
Pre-Aligner (Single axis)
Status lamp (DeviceNet, Color configurable, Left-Side pole mounted)
Light curtain
Front facing intake plenum
Mini-Environment with automatic pressure control
12" Centura AP M/F:
Robot: VHP (Std Reach ver)
Robot blade type: Conductive alumina
Clear Lid
Process chamber isolation: Dual pressure VAT Bellows
336 Al slit valve inserts
Umbilicals:
Heat exchanger: 65ft
Heat exchanger hoses: 50ft
Pump: 65ft
Facility connections: AP Front, Thru-the-floor
System safety: M/F AC Dist. Box with LOTO CBs
Std INTLK system
EMO Push turn to release
User interface:
UI-1: Roll-Around stand, Flat panel / Keyboard
UI-2: Thru-the-Wall, Flat panel
Chambers:
LLKA: SWLL (Cool down only)
LLKB: SWLL (Cool down only)
A: Ultima X HDP-CVD (Z7)
B: Ultima X HDP-CVD (Z7)
D: Ultima X HDP-CVD (Z7)
Load locks:
Type: SWLL (AP ver)
Cool-Down enabled
Door type: AP Std
Lid type: Std viewport Lid
VAT Bellows
336 Al slit valve inserts
Process chambers:
Ch-A / B / D: Ultima X HDP-CVD (Z7)
IR Diagnostic
(01) Oxide ¡V USG STI with He / H2
Astron RPS
MKS (ENI) Spectrum power supplies
Turbo pump: Shimadzu H3603L
Turbo CNTRL: Shimadzu
Gas box config:
Gas panel feed: Bottom
Exhaust: Bottom
MFCs: Unit 8565C
Valve type: Veriflo
Filter type: Millipore
Controller type: DeviceNet
Gas lines (Ch-A/B/D):
#1: N2 (pure), #2: O2 (pure), #3: H2 (pure), #4: SiH4, #5: He (pure), #6: He (pure)
#7: Ar (pure), #8: SiH4, #9: O2 (pure), #10: NF3, #11: NF3, #12: N2 (pure)
Heat exchanger / Chiller:
(2) SMC Heat exchanger
Pumps:
Txfr: (1) Alcatel A100L iPUP
Alcatel pump interface box
(2) Equipment racks (Ultima version)
(1) AC Rack
Facilities UPS Interface
Power requirements: 200/208VAC, 3-Phase, 400A, 4-Wire, Freq 60Hz
Primary 400A Drop for 1-2 Process chamber support
Options:
Hynix specific configured FI status lamp
Power vaccine (1s power off time delay)
CE-Marked
2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima Xは、半導体およびマイクロエレクトロニクス製造における金属および誘電体フィルムの迅速かつ正確な成膜用に設計された高性能な成膜ツールです。この装置は、絶縁蒸着や金属蒸着などの高度なプロセス技術に優れた「クラス最高」の性能を提供し、困難なデバイス要件を満たします。AMAT Centura AP Ultima Xは、完全に自動化されたウェーハ転送システム、高度なソフトウェア制御機能、高精度圧力制御技術、自動洗浄およびメンテナンス機能など、最新の機能を備えています。このユニットは、短い堆積サイクルと最も困難な堆積プロセスのための一貫した結果を提供することができる高度な大容量プラズマ源によって駆動されます。Ultima Xの高精度モーションシステムにより、ウェーハを正確に位置決めしてスループットと再現性を高めます。また、自動輪郭ウェーハおよびエッジバイアス保証（CBEA）機能により、フィルムが基板に適切かつ均一に付着することが保証されます。その高度なポンピングシステムは、プロセスガスが安定しており、必要な濃度範囲内であることを保証します。Ultima Xの精密ガス供給ツールは、汚染の低減にも役立ちます。APPLIED MATERIALTS Centura AP Ultima Xは、成膜の均一性に関して+/-5％より優れた優れた性能を提供します。Ultima Xで達成された均一性の結果は、いくつかの独立したサードパーティの研究によって確認されています。さらに、Ultima Xの優れたチャンバー設計により、サイドウォールのスパッタリングと空気中の粒子からの汚染によるウェーハの損傷の可能性が低減されます。これにより、Centura AP Ultima Xは、高精度と精度を必要とする蒸着プロセスに最適です。さらに、このアセットの高度なin-situ洗浄機能は、ウェーハ間の均一性を維持しながら、高品質の成膜を維持するのに役立ちます。また、メインコントロールコンソールから圧力および温度プロファイルを調整および設定する機能など、基板およびウェーハ処理の自動化を提供します。Ultima Xは直感的なユーザーインターフェイスも備えており、プロセスパラメータと診断を明確に表示できます。全体として、AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima Xは、優れた均一性、スループット、安定性を備えた高度でユーザーフレンドリーな成膜装置です。このシステムは、高性能な誘電体および金属堆積物から高精度で再現性のあるプロセスまで、さまざまな高度なプロセス要件に費用対効果の高いソリューションを提供します。このユニットの機能は、高品質で信頼性の高い蒸着プロセスを必要とする半導体、マイクロエレクトロニクス製造、およびその他の業界にとって理想的な選択肢となります。
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