中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP DPS II #9209227 を販売中

ID: 9209227
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2006
Polysilicon etcher, 12" (4) Process chambers: DPS-ll With AGN ESC Missing parts: Qty / Name / Part number (1) / View window / 0200-36461 (1) / 10 Torr gauge / 135-00013 (1) / Ion gauge / 3310-0006 (1) / Bias match / 0190-03009 (1) / HV / 0090-00865 (1) / Foreline gauge /1350-01232 (1) / Ion gauge ISO valve / 3870-00021 (1) / Monochrometer EPD / 0010-05478 (1) / Slit door / 0020-64587 (1) / Slit door bellow / 0040-76767 (1) / NA Heated weldment TEE-KF 40 / 0190-23502 (1) / Heated weldment 7.09 KF 40 R / 0190-23503 (1) / MF Robot driver / 0190-17853 (3) / E84 Cables / - (2) / Special gas pipes / - 2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP DPS IIは、半導体産業で使用される材料を処理するために設計された原子炉です。この原子炉は、酸化物、窒化物、ケイ化物などの半導体材料を高精度かつ高精度に加工することができます。AMAT Centura AP DPS IIのメカニクスは「、動的圧力センシングシステム」(DPS)に基づいています。この革新的なシステムは、材料を加工または成長させる際に精密で調整可能な圧力制御を可能にします。ガスの圧力と流れ、ならびに反応剤の温度は、すべて正確なレベルで監視および維持されます。異なる温度で材料を加工することができるため、加工する材料の種類に柔軟性が得られます。応用材料Centura AP DPS IIには、窒素酸化物、窒素、アルゴンなどのリアクタントを原子炉室に供給するために使用されるガス多様体もあります。このガスマニホールドは、チャンバー内のガスの制御された流れを可能にし、プロセスの精度を確保するのに役立ちます。さらに、プランジャーインジェクションシステム(PIS)は、充電材料の注入を正確に制御します。Centura AP DPS IIの設計も安全性を最大限に高めるために構築されています。弾力性のある安全シールドにより、飛散を防ぎ、デュアルチャルモニウム反応チャンバーにより、プロセスを最適な温度に保ちます。さらに、使用中の完全な封じ込めを確保するために、リモートシャッターが原子炉室に取り付けられています。さらに、AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP DPS IIに搭載された高度なオートメーション技術は、リアルタイムで監視する機能と、原子炉プロセスの特定の側面をリモート制御する機能をユーザーに提供します。これにより、より高い精度と制御が可能になり、ユーザーはプロセスが経時的にどのように変化したかについてのデータを提供します。効率に関して言えば、AMAT Centura AP DPS IIはクラスのトップです。最先端の設計と高度な制御機能により、半導体材料を処理するための信頼性と信頼性の高いデバイスです。APPLIED MATERIALS CENTURA AP DPS IIは、精密な圧力制御システムと堅牢な耐食構造により、半導体産業で使用される材料の成長、加工、特性評価に最適なデバイスです。
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