中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP #9044357 を販売中

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ID: 9044357
RP EPI system, 12" Install Type: Through-the-wall (TTW) Platform Type: 300mm Centura ACP System Config: FI/LPs LLK-A (Batch Load) LLK-B (Batch Load) Ch-A: RP EPI Ch-B: RP EPI Ch-C: RP EPI Ch-D: RP EPI Cassette Interface: Factory Interface (FI): rev 5.3+ (2) 300mm TDK FOUP Load-ports Status Lamp: FI Mounted, Programmable, (R, Y, G, B) Transfer Chamber Lid type : Solid (SS) User Interface: System-side UI on Roll-around stand Touch Screen Keyboard/Mouse System Software (SW) ver: ccB2.6_37 Power Requirements: 480/208VAC, 3-Phase Chemical/Gases used: H2, DCS, HCL, N2 Remote Components: (2) AC Remote Panel, 480VAC 2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACPは、先進的な半導体包装アプリケーション向けに設計された最先端の蒸着炉です。ポリマー、酸化物、有機物など、さまざまな材料に高性能、低コスト、高収量の結果を提供することができます。AMAT Centura ACPは高度な半導体包装のために設計されており、プロセスをカスタマイズするためのモジュール設計を備えています。高度な可変蒸着速度機能を備えており、基板上の材料の厚さと均一性を正確に制御できます。この原子炉には、可変回転システムなどのマルチモード機能もあり、複数の基板を同時に処理することができます。他の処理機能と組み合わせて、原子炉は複数の層を持つ複雑な立体構造を生成する能力を持っています。APPLIED MATERIALTS Centura ACPには、成膜速度とフィルムの均一性を正確に制御するための高度な機能が多数搭載されています。高解像度の投影光学システムを備えており、堆積パラメータの正確なアライメントと監視を可能にします。また、蒸着工程中のプロセスチャンバーの精密移動を可能にする制御可能なノズルポジショナーを備えています。Centura ACPは、シランから水素silsesquioxanes (HSQ)まで、さまざまな高性能フィードガスケミストリーと互換性があります。この原子炉は、抵抗材料、フィルム接着剤、金属、およびシリコンおよびMEMSデバイスなど、さまざまな材料を処理することができます。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACPは環境要件を念頭に置いて設計されており、低粒子レベルを確保しながら、高収量、高性能な結果を提供します。スケーラビリティを考慮して設計されており、バッチシステムやクローズドループシステムなどの他の機器と連携します。AMAT Centura ACPのモジュール設計と機能により、高度な半導体パッケージングアプリケーションに一貫した高品位な結果を提供できます。そのマルチモード機能の範囲は、高生産運転やカスタムプロセスに最適です。APPLIED MATERIALS Centura ACPは、精密な制御と高収量の結果を得るための高度な機能を備えており、高度な半導体包装ニーズに最適です。
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