中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9281040 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200は、ウエハレベル処理の先進的な装置です。化学蒸着（CVD）、物理蒸着（PVD）、エッチング、リソグラフィなど、さまざまな用途に対応しています。このシステムは、化合物半導体、光学、および高度なロジック材料の製造のための信頼性の高い、費用対効果の高いソリューションを提供します。AMAT Centura 5200には、バッチ処理とインラインプロセスの両方をサポートするフルスイートのツールが装備されています。これには、1回のローディングサイクルで最大15個のウェーハをホスティングできる300mm原子炉室が含まれています。スループットに関しては、APPLIED MATERIALS Centura 5200は30分のサイクルタイムを提供し、1時間あたり最大25ウェーハを提供できます。プロセス精度に関しては、0。5〜1。0％の再現可能な精度と0。5ナノメートルの究極の精度を備えた高性能なユニットです。このマシンはまた、クリーンで効率的な操作を保証するクローズドループ環境ツールを含む環境および安全制御機能の範囲を提供しています。また、プログラマブルダイレクトベントアセットとウェーハを有害な汚染物質から保護するドライエキゾスケルトン設計を備えています。安全面では、Centura 5200はさまざまな安全上の危険を検出し、オペレータに危険を知らせるように設計されています。また、エネルギー効率のために設計されており、エネルギー効率は最大92％です。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200モデルで利用可能なソフトウェアオプションは、プロセス全体を強力に制御します。Windowsベースの処理ソフトウェアとユーザーフレンドリーなグラフィカルユーザーインターフェイスを備えており、ユーザーはプログラムをすばやく構築してプロセスを制御できます。このソフトウェアを使用すると、オペレータは負荷増加率やチャンバー圧力など、幅広いパラメータにアクセスできます。さらに、このソフトウェアには、オペレータがプロセスデータを分析およびレビューできるレポート機器が含まれています。全体として、AMAT Centura 5200はウェーハレベルの処理に適した汎用性と堅牢性を備えたシステムです。それは信頼できる性能およびプロセス制御および安全特徴の広い範囲を提供します。このユニットは、ユーザーがプロセスを迅速かつ簡単に制御できるようにする一連のソフトウェアオプションも提供しています。APPLIED MATERIALS Centura 5200は、競争力のある価格と効率により、複合半導体、光学、高度なロジック生産に最適なソリューションです。