中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9240242 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200は、半導体製造業向けに設計されたマルチリアクタント炉です。この原子炉は、誘電体と半導体層の薄い層をICに堆積させるために使用されます。複雑な集積回路構造の最高レベルの精度、精度、歩留まりを提供します。AMAT Centura 5200の主な特徴は、高度なモジュラー構造です。プリドーパント反応室、ポストドーパント反応室、ターボポンプなどのモジュールのホストが含まれています。ドーパント前反応室は、ドーピング、パターニング、沈着操作のための反応ガスの導入を可能にする密閉環境です。また、堆積プロセスの開始前にウェーハをプライミングするための環境としても役立ちます。ポストドーパント反応チャンバーは、Eビーム法に基づいて誘電体または半導体の薄い層を堆積するために使用されます。加えて、APPLIED MATERIALS Centura 5200はターボポンプを備えており、反応室内の大気を安定させるために安定した静的な真空環境を提供します。Centura 5200の最先端の設計は、表面汚染を最小限に抑え、粒子欠陥を最小限に抑えるために最適化されています。堆積過程では、計測や各層の重要な寸法や変数を監視する粒子制御機能など、多くの並行技術が使用されています。さらに、AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200の設計は高度に構成可能であり、さまざまなプロセス要件に合わせて調整することができます。最先端のエンジニアリングに加えて、AMAT Centura 5200は半導体製造にも多くのメリットを提供しています。モジュラー設計により、薄く複雑な層を同時に堆積させることができ、サイクルタイムを短縮し、プロセス制御を簡素化します。さらに、パーティクルと欠陥レベルを低減し、デバイスと製品の信頼性と歩留まりを向上させるのにも役立ちます。最後に、APPLIED MATERIALS Centura 5200で使用される強力な技術は、歩留まりとコストのバランスを維持しながら、高いスループット、効率、精度を確保します。