中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9196778 を販売中
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販売された
ID: 9196778
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1996
PECVD System, 8"
Process: eMax
JMF
SMIF Interface: No
Chamber A / B / C: eMax
Chamber F: Orientor
Load lock A / B: Narrow
(6) Wafer sensors
EPD Controller
System placement: System alone
Chamber A / B / C:
RF Match: 0010-30686
RF Generator: OEM-28B
ALCATEL ATH1600M Turbo pump
Throttle valve
MKS TYPE127 1TORR Mono meter
Mainframe information:
System placement: Stand alone
Robot type: HP+
L/L Wafer mapping
Slit Valve / Plate type: Standard
Robot blade: Ceramic
W/F Slippage sensor
N2 Purge
Heat exchanger (Chiller): No
Dry pumps: No
System monitor: Stand alone
Gas panel configuration: 7 Channels
Chamber A:
CL2 / 100 Sccm / SEC-4400M
CF4 / 100 Sccm / TYLAN 2900
N2 / 100 Sccm / SEC-4400
AR / 300 Sccm / SEC-4400M
O2 / 5 Slm / SEC-4400M
CHF3 / 20 Sccm / SEC-4400M
CF4 / 100 Sccm / SEC-4400M
Chamber B:
C4F8 / 50 Sccm / SEC-7440MC
CO / 500 Sccm / SEC-7440MC
N2 / 100 Sccm / SEC-4400
AR / 200 Sccm / SEC-4400M
O2 / 50 Sccm / SEC-4400M
CHF3 / 100 Sccm / SEC-4400M
CF4 / 50 Sccm / SEC-4400M
Chamber C:
CL2 / 100 Sccm / SEC-7440MC
CHF3 / 50 Sccm / TYLAN 2900
N2 / 100 Sccm / SEC-4400
AR / 2 Slm / SEC-4400M
O2 / 5 Slm / SEC-4400M
CHF3 / 20 Sccm / SEC-4400M
CF4 / 50 Sccm / SEC-4400M
Electrical:
Line frequency: 50 / 60 Hz
Power: 208 VAC, 4 Wires, 3 Phase delta
Missing parts:
(2) Slit valves
(3) Flow sensors & coolant lines
EPD Monitor
Liner for B-ch
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200は、集積回路や高度な半導体デバイスの製造に優れた性能を提供する大容量処理炉です。AMAT Centura 5200は高度な自動化と柔軟性を念頭に置いて設計されており、複雑なウェーハ処理タスクのパフォーマンスの精度と速度を実現します。APPLIED MATERIALTS Centura 5200には、自動ウェーハ処理、可変位置読み込み/アンロード、自動レジストおよびエッチングプロセス、自動レーザパターニング、最大7つのウェーハを同時に処理する機能など、幅広い自動機能が搭載されています。さらに、Centura 5200は、自動エッジスキャンや欠陥検出などの高度な検査機能を提供します。この高度な機能セットにより、AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200は従来の処理システムよりも高い精度とスループットを実現します。AMAT Centura 5200は、幅広い処理条件下で信頼性の高い動作が可能であり、さまざまな周囲温度および圧力で一貫した予測可能な性能を保証します。また、環境モニタリングシステムを内蔵しており、オペレータが安全で安全な処理条件を確保するのに役立ちます。さらに、APPLIED MATERIALS Centura 5200の先進的な動的制御システムは、原子炉の内部圧力を継続的に監視および調整し、エッチングプロセス全体にわたって最適な条件が維持されるようにします。Centura 5200はまた、ガスの流れと圧力レベルを継続的に監視および調整する精密なプロセス制御システムを採用し、信頼性と再現性の高いプロセス性能を提供します。このシステムにより、リアクタント濃度の精密な制御と正確な温度と流量時間の設定が可能になり、ユーザーは毎回反復可能なプロセスで正確な結果を得ることができます。さらに、AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200は、ウェーハ温度と圧力、およびその他の重要なウェーハ間プロセスパラメータに関するリアルタイムデータを提供する統合プロセスコントロールコンピュータを備えています。AMAT Centura 5200の高度なオートメーションおよびプロセス制御機能は、堅牢な設計と構造を兼ね備えており、大量のエッチングアプリケーションに最適です。APPLIED MATERIALTS Centura 5200は、最大7つのウェーハを同時に処理することができ、あらゆるサイクルで信頼性と再現性の高い結果を提供することが保証されています。高度な自動化とプロセス制御機能により、オペレータはエッチングプロセスのパラメータを効率的かつ正確に制御することができ、全体的に一貫した予測可能なパフォーマンスを保証します。
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