中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9145240 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200は、プラズマエッチング技術を活用した高性能誘電体エッチング炉で、ハイスループット半導体製造を可能にします。この装置は、高度な誘電性材料層の繊細な特徴をエッチングするための、高度に制御された、低温、高密度プラズマ環境を提供します。このシステムは、最大5 Torrのプロセス圧力を達成できる高性能の真空チャンバで構成されています。このチャンバーはRF電源で駆動されており、誘電層の複雑な構造をエッチングする高密度プラズマを作成できます。チャンバーの設計はまた、迅速な避難を可能にし、ユニットは迅速なプロセス時間と増加収率を達成することができます。独自のガスインジェクション装置により、異なる誘電体の種類のプラズマエッチングを助長するガスの混合物を作成することができます。ガスの混合物を制御することにより、プラズマの力とチャンバーの温度と組み合わせて、このツールは、最も要求の厳しい誘電体の層のいくつかをエッチングすることができます。このプロセスは、高解像度光学（HROS）やシャドウマスクシステムなどの非アセットコンポーネントによってさらに強化されています。これらにより、絶縁層製造に関わる微調整プロセスに欠かせない、歪みを最小限に抑えた高分解能機能を実現します。プラズマエッチングプロセスに加えて、チャンバーはレジストストリッピングプロセスと互換性のある環境も提供します。これによりレジスト材料の除去が可能となり、高度な半導体デバイスの製造に不可欠な金属および誘電体部品の精密な形成が可能となります。AMAT Centura 5200は、繊細な誘電体層をエッチングするための高精度で一貫したプロセスを提供します。高度な技術と正確な制御を組み合わせることで、品質を損なうことなくプロセスの歩留まりとスループットを向上させることができます。この装置は、最新の半導体製造プロセスの進歩において重要なツールです。