中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9071275 を販売中

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ID: 9071275
ウェーハサイズ: 8"
Epi Reactor, 8" Application: Sige Bipolar/BICMOS Chamber type | Selected option: Chamber A: (RH) Reduced pressure EPI Chamber B: (RH) Reduced pressure EPI Chamber C: (RH) Reduced pressure EPI Chamber D: Empty Chamber E: Empty Chamber F: (CA) Single slot cooldown EMO Guard ring Chamber A/B/C: Thickness control options: Accusett 2 Recipe control software: No Third manometer: P/N 0220-35949, 200 Torr Gas line isolation: Yes Leak check port: None RGA port and valve: None Gas delivery options: ATM Capability in GP Only: No Gas panel type: Configurable Gas panel exhaust: Chamber B side MFC: P/N: 0221-18389, Unit 8561 MFC's Filter: Millipore Pump purge: Yes Chamber A/B/C Gas Option: SiHCl3: Not applicable SiH2Cl2: Yes SiH4: Yes GEH4: Yes Direct inject dopant: 2 Mixed dopant 1: Yes Mixed dopant 2: Yes Mainframe: Loadlock type: P/N: 0220-35948 Narrow body load locks with tilt-out WBLL Equalization: No Cassette platform type: Universal Common chamber options: Variable speed blower: Yes SW Monitor quartz pyrometer kit: 3 Lamps type: Ushio log life Susceptors: Tabbed susceptor Brands: Toshiba Lift pin type: Hollow silicon carbide Susceptor support shaft: NCP Susceptor support shaft Tips: Silicon carbide removable tips Exhaust inserts: Stainless steel Lower liners: Non-vented Pump isolation valve: No Exhaust deposit reduction: N/A Transfer chamber: Wafer sensing: On the fly cneterfinding Transfer chamber lid hoist: Yes Robot: HP + ENP Transfer chamber purge, 15 SLM: Yes Diagnostics and control: SECSTrace: Yes Vacuum pumps: Pump brand: Edwards Loadlock chamber pump: Edwards iQDP40 Transfer chamber pump: Edwards iQDP40 Proces chamber pump: Edwards iH1000 Monitors: (1) Through the wall and (1) Table mount Manual Set Tools and kits: Centura HT Temp profiling kit Upper dome centering ring kit HT Level 1 Consumable kit (2) Additional Level 1 consumable kit Additional Epi quartz and graphite spares: (2) Reduced pressure upper dome (2) Lower dome (4) Spare susceptors (4) Preheat rings Manually input spare: P/N: 3920-01120, 10-120 lb-in torque wrench 480 V with transformer, 60 Hz, 600 A Currently installed 2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALTS Centura 5200は、高度な電気めっき、エッチング、誘電処理アプリケーションで使用するために設計された原子炉装置です。パターン加工用の高精度フォトリソグラフィックマスクを搭載しています。このシステムは、基板の広い領域に物理的および化学的処理を迅速かつ効率的に適用するように設計されています。AMAT Centura 5200は厚いステンレス鋼の外殻で構成されており、腐食やその他の環境条件に対する信頼性と耐久性の高い保護を提供します。シェル内部では、最先端の制御モジュールとロボット搬送ユニットを使用して、機械のプロセスの精度と再現性を確保しています。このツールは、ポンプ、バルブ、その他のモーションコントロールコンポーネントの自動配列も備えており、材料の信頼性と正確な配送を保証します。このアセットは、複数のタイプのバスコンフィギュレーションだけでなく、さまざまな基板材料にも対応できるため、さまざまなアプリケーションに適しています。さらに、ユーザーは、処理される材料に応じて適切なバッチ持続時間とプロセスパラメータを選択することができます。また、組み込みプログラマブルロジックもサポートし、特定のプロセスに必要なすべてのパラメータを監視および制御することができ、プロセス条件のより多くの制御を可能にします。この原子炉は、RT(室温)から350°Cまでの幅広い動作温度と175 l/minの最大流量を提供します。高速、高精度のめっきプロセスのために適したそれを作ります。ユーザーはまた、蒸発の所望の速度などのカスタムパラメータを指定することができ、機器は将来の参照のために任意のプロセス結果を検出して保存することができます。APPLIED MATERIALTS Centura 5200は、正確で反復可能で効率的なめっき、エッチング、誘電プロセスを提供する高度な技術を備えた信頼性の高い原子炉です。様々なタイプの基板やバスコンフィギュレーションを容易に取り扱えるため、信頼性が高く汎用性の高いリアクターとなっています。
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