中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #293685998 を販売中
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ID: 293685998
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 1994
System, 6"
(3) Chambers
Oxide chamber for EMXP+, 6"
HP Robot
Gas panel: VME1/VME2
MFC/Gas filter missing
Gas box
Load lock
Simple cathode and ESC
Wall and cathode liner
SEIKO SEIKI 301
HV Module
RF Match box
ENI OEM 12B-03
Gas panel valve
VME1 Gas control
EOP Controller (3-channels)
Removed parts:
Generator
Pump
1994 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200は、半導体製造業界に精密なプロセス結果を提供するために特別に設計された高性能反応器です。超高品質エッチングと成膜プロセスを可能にする、新しい自動トップロード方式を採用しています。この装置は、コスト、スピード、精度の面でさまざまな利点を提供しているため、幅広い主要な製造プロセスにおいてお客様に理想的です。AMAT Centura 5200の中心には、オンボードガスマネージャを備えたユニークなデュアルポンプ式真空システムがあります。この高度なユニットは、ほぼ完璧な圧力制御を提供し、基板の損傷や材料アブレーションを低減しながら、非常に一貫したエッチングと蒸着性能を提供することができます。さらに、その真空レベルを99。7％以上に調整することができ、高価な真空ベークアウトの必要性を排除し、機器のターンオーバーを大幅に改善します。APPLIED MATERIALS Centura 5200の反応チャンバーには、加工中にウェハを静かに保持するカスタムデザインの基板ソケットが装備されています。これにより、ウェーハが完全にレベルを維持し、あらかじめ定義された速度で回転して、一貫したエッチングと蒸着効果を保証します。さらに、このマシンは堅牢な内部ラインフィルターで構築されており、ほこり、破片、汚染物質からチャンバーを保護します。Centura 5200のプロセスパラメータを徹底的に制御することで、下位プロファイル（ボーダーライン）のエッチングと蒸着プロセスを最大限に制御し、高温にさらされます。これにより、非常に魅力的な結果と最高品質を可能にします。ハードウェア機能に加えて、ツールには洗練された制御およびオートメーションツールが装備されており、繰り返し可能で費用対効果の高い結果を保証します。AMAT/APPLIED MATERIALIES Centura 5200は、超高品質のエッチングおよび蒸着プロセス用に装備されており、毎回完璧な実行を保証します。最先端の真空アセットとカスタム基板ソケットにより、デバイス構造が均一になります。一方、自動化されたトップロードアプローチ、高度な制御、自動化機能により、すべてのプロセスパラメータが正確に調整され、最高品質の結果が得られます。AMAT Centura 5200は、精度と性能を完璧に兼ね備えており、高度な半導体生産プロセスに最適です。
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