中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #293614968 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALTS Centura 5200は、主に集積回路の製造において、薄膜誘電体成膜の高度なプロセス用途向けに設計された原子炉です。200mmウェハレンジのエッチングツールで、高度な性能を発揮し、高度なプロセス制御と信頼性を提供します。薄膜材料（通常は二酸化ケイ素）の表面に電場を導入することによって生じる基板の向きを持つエッチングシステムです。AMAT Centura 5200は汎用性が高く、高い選択性、接触および非接触エッチング、層の堆積および不動態化酸化など、さまざまなプロセスをサポートできます。また、ハイスループットアプリケーションも提供しており、最大7つのプロセス操作を同時に実行できます。さらに、APPLIED MATERIALTS Centura 5200は、エッチングの均一性を正確に制御する機能や、ウェーハの温度と圧力を制御する機能など、プロセスパラメータを正確に制御できる高度な機能を備えています。Centura 5200を使用すると、エッチングサイクルが高速で再現可能なため、プロセスの安定性が向上します。高度なプロセスパラメータの微調整により、均一性や深度制御など、要求の厳しいプロセス要件に高いエッチング歩留まりを提供することができます。また、アークフリー洪水、自動化されたプロセス監視、リアルタイムエッチング速度などの高度な安全機能も備えています。AMAT/APPLIED MATERIALTS Centura 5200は、薄膜成膜およびエッチングの高いスループット要件を満たすように独自に構成されています。高度な冷却システムにより、高い蒸着速度と冷却時間を実現し、単一のウェハまたは複数のウェハアプリケーションで構成することができます。AMAT Centura 5200の高度な温度制御機能は、従来のシステムよりも均一で反復可能な結果を提供します。APPLIED MATERIALS Centura 5200は、最も困難な条件下でも信頼性の高い結果を保証できる堅牢で優れた設計のシステムです。メンテナンスが容易で、幅広い互換性のある材料を持ち、さまざまな産業用途で使用できます。Centura 5200は、エッチングと薄膜成膜のための信頼性の高い高度なプロセスを探しているユーザーに最適です。