中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #200226 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200は、FinFET、ゲート誘電体、MEMS、薄膜バルク材料、拡散障壁などの先進半導体製品の製造に適した次世代PECVD炉です。AMAT Centura 5200は、ソース・ガスの様々な組み合わせと柔軟性が容易に追加のプロセスモジュールを統合することを可能にするモジュール設計を備えています。特許取得済みのガス配送装置、高効率ガス輸送システム、低圧リモートプラズマ源、高解像度均一制御など、材料の品質と均一性を最大化するように設計されたさまざまな機能を備えています。さらに、時間の経過とともに安全で信頼性の高い再現性の高い性能を実現するために設計を最適化しました。APPLIED MATERIALS Centura 5200は、1つの均一なプロセスで最大4インチウェーハを処理できる大型チャンバー設計を備えています。ウエハートランスポートユニットを自動化し、操作の非接触性によりヒューマンエラーの可能性を低減します。これにより、搬送時のウェーハ表面の機械的損傷を防止します。さらに、自動ガスハンドリングマシンは、正確なガス入口速度制御と時間の経過とともに再現性を保証します。Centura 5200のプロセス機能も非常に汎用性に優れています。0〜300ワットの選択可能なパワーレンジが付属しており、幅広いプロセスレシピに使用できます。これらのレシピは、アプリケーションとプロセスの条件に応じて、個々の要件に合わせて調整することができます。これにより、ユーザーはAMAT/APPLIED MATERIALTS Centura 5200のパフォーマンスを最大化し、最高品質の製品を生産することができます。プロセスの均一性という点では、AMAT Centura 5200はウェーハ表面全体でほぼ完璧なウェーハ間の均一性で優れた結果を達成し、業界標準を超えています。プロセス全体が自動化されており、手動での介入を最小限に抑える必要があります。これにより、最高品質の製品を提供しながら、一貫性、時間、コストを削減できます。APPLIED MATERIALTS Centura 5200は、半導体材料や部品の加工に最適で、優れた結果とコスト削減を実現します。堅牢な設計、汎用性の高いプロセス機能、および高精度の均一性制御により、Centura 5200は最新の半導体製造に最適です。