中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #146830 を販売中

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フォト（写真） 使用される AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 販売のために
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販売された
リアクター
製造業者
AMAT / APPLIED MATERIALS
モデル
Centura 5200
ID: 146830
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1996
DxZ System with 3 Chambers, 8" RF cleaning type Application: CVD Platform Type CENTURA I BODY SBC Board V452 Chamber Type Position A DxZ Nitride Position B DxZ Nitride Position C DxZ Nitride Position D Blank Position E MULTI COOLDOWN Position F CHA - DxZ CHAMBER Chamber Options Process Kit Customer Option Baratron Guage 10Torr / 1Torr Match AE 3155094-003A Heater Lift 0010-38426 RF Generator RFG 2000-2V EPD 0500-01047 Heater Driver 0190-09419 CHB - DxZ CHAMBER Chamber Options Selected Option Process Kit Customer Option Baratron Guage 10Torr / 1Torr Match AE 3155094-003A Heater Lift 0010-38426 RF Generator RFG 2000-2V EPD 0500-01047 Heater Driver 0190-09419 CHC - DxZ CHAMBER Chamber Options Selected Option Process Kit Customer Option Baratron Guage 10Torr / 1Torr Match AE 3155094-003A Heater Lift 0010-38426 RF Generator RFG 2000-2V EPD Heater Driver 0190-09419 CHE - COOLDOWN CHAMBER Type Multi cooldown CHF - (OA) ORIENTER Orienter Standard Gas Delivery Options Pallet Options Component Selection STANDARD Valve Veriflo Transducer MKS Regulator Filter Transducer Displays MFC Type STEC 4400 Gas Panel Pallet A Gas Line Requirement Gas Line Configuration Line 1 Gas NH3 MFC Size 2 SLM Line 2 Gas N2 MFC Size 5SLM Line 3 Gas SiH4 MFC Size 200 SCCM Line 4 Gas NF3 MFC Size 1 SLM Line 5 Gas N2O MFC Size 1 SLM Line 6 Gas CF4 MFC Size 3 SLM Line 7 Gas N20 MFC Size 4V 239.7 SCCM / 2V 119.8SCCM Line 8 Gas N2 MFC Size 5 SLM Line 9 Gas HE MFC Size 5SLM Gas Panel Pallet B Gas Line Requirement Gas Line Configuration Line 1 Gas NH3 MFC Size 2 SLM Line 2 Gas N2 MFC Size 5SLM Line 3 Gas SiH4 MFC Size 200 SCCM Line 4 Gas NF3 MFC Size 1 SLM Line 5 Gas N2O MFC Size 1 SLM Line 6 Gas CF4 MFC Size 3 SLM Line 7 Gas N20 MFC Size 4V 239.7 SCCM / 2V 119.8SCCM Line 8 Gas N2 MFC Size 5 SLM Line 9 Gas HE MFC Size 5SLM Gas Panel Pallet C Gas Line Requirement Gas Line Configuration Line 1 Gas NH3 MFC Size 2 SLM Line 2 Gas N2 MFC Size 5SLM Line 3 Gas SiH4 MFC Size 200 SCCM Line 4 Gas NF3 MFC Size 1 SLM Line 5 Gas N2O MFC Size 1 SLM Line 6 Gas CF4 MFC Size 3 SLM Line 7 Gas N20 MFC Size 4V 239.7 SCCM / 2V 119.8SCCM Line 8 Gas N2 MFC Size 5 SLM Line 9 Gas HE MFC Size 5SLM Transfer Chamber Transfer Ch Manual Lid Hoist YES Robot Type CENTURA HP ROBOT Robot Blade Option Ceramic Blade Remotes Heat Exchanger AMAT 0 Currently stored in a cleanroom 1996 vintage.
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AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200リアクターは、半導体デバイスの製造にクリーンで低温プロセス環境を提供する高度なプラズマ強化化学蒸着（PE-CVD）システムです。超高真空水平作動型リアクターで、幅広いCVDプロセスレシピと材料で究極の柔軟性を提供します。AMAT Centura 5200は、マイクロ波周波数、イオンメッキ、プラズマ強化反応源を利用して、より制御可能で再現性の高いプロセスを実現し、薄膜層を基板上に配置し、デバイスの性能と信頼性を向上させます。この装置は、必要なプロセスパラメータや基板自体の温度について、ソースのガス温度と流量を正確かつ正確に制御することができます。APPLIED MATERIALS Centura 5200は、生産性を最大化するマルチゾーンの発熱加熱炉システムと、各反応ゾーンに慎重に配置されたエンドポイントセンサのグループを備えており、高品質の薄膜層を一貫して形成する均質なプロセスを保証します。最終的に、高度なディーププロファイル分析（DPA）、プロセス監視、フィードバックループを伴う均一な膜厚は、非常に複雑なプロセスの再現性を保証します。大面積の基板ホルダーを追加することで、2つの異なるプロセスを同時に実行する柔軟性を最小限に抑えます。さらに、Centura 5200の高度な自動RF/DC発電機は、従来のシステムよりも高速なランプアップ時間で正確な電力制御を提供します。最後に、AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200には、より迅速なプロセス設定、結果の分析、レシピ形成などを可能にするユーザーフレンドリーなソフトウェアが含まれています。それは世界中の主要な実験室で広くテストされ、認定されており、利用可能な最も先進的で効率的なPE-CVDシステムの1つと考えられています。
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