中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #118476 を販売中

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200
ID: 118476
ウェーハサイズ: 8"
Poly Etch DPS System, 8" Centura 5200 mainframe Phase II facility HP Robot Widebody loadlocks Position A: DPS R1 Poly Etch Position B: DPS R1 Poly Etch Position C or D: DPS R1 Poly Etch Position E: Orienter Advanced Energy RF20R generator Advanced Energy RF5S generator Amat 0 Heat Exchanger Neslab HX-150 chiller.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200は、エッチング用途に高性能フォトリソグラフィーソリューションを提供し、複雑な回路の製造に使用できる先進的な半導体エッチング炉です。さまざまなアプリケーションのニーズに対応する幅広いエッチングおよび成膜ソリューションを提供し、再現性の高い高品質な結果に対して高い信頼性を提供します。この装置は、デュアルソースのプラズマ生成と複数の自動補充ポンピングシステムのユニークな組み合わせで設計されています。デュアルソースプラズマにより、複数の層材料またははるかに複雑な基板およびフィーチャサイズをエッチングできます。真空チャンバーには、汚染物質を最小限に抑えながらチップを急速に積み下ろしする「ロードロック」機能もあります。AMAT Centura 5200は、幅広い膜厚、プロファイル形状、フィーチャーサイズを提供できます。このシステムには自動化されたソフトウェア機能が搭載されており、ユーザーはプロセスレシピをカスタマイズし、ユニットをより正確に制御することができます。また、幅広いインライン環境モニタリングおよびフィードバック制御機能を備えているため、プロセス異常を迅速に特定し、適切に対応することができます。応用材料Centura 5200はSiO2、 SiC、 Al2O3、 GaAs、 GaNおよび他の材料を含むいろいろな材料を、処理できます。このツールは、磁気記録メディアやMEMSアプリケーションのエッチングなどの高度なエッチングプロセスにも対応しています。また、高い収率と優れたエッチング均一性で均一な成膜が可能です。Centura 5200は、温度、圧力、時間、反応性ガス、および特定のアプリケーションのニーズを満たすように設定できるその他のパラメータなど、幅広いプロセス変数を提供します。また、優れたプロセス制御と再現性を提供し、ユーザーは一貫した高品質の生産結果を達成することができます。さらに、この資産は低い所有コストで設計されており、ユーザーに信頼できる運用の長い耐用年数を提供します。
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