中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxP #118471 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxPは、超薄膜およびナノ構造を成長させるための汎用性の高いプラットフォームとして特別に設計された高性能の化学蒸着（CVD）原子炉です。広い機能と機能を備えた、柔軟性の高い高温（最大1000°C） CVD装置です。AMAT Centura 5200 WxPには2つの独立した反応チャンバーがあります。主な原子炉室はCVDシステムの中心であり、第2の原子炉室は前蒸着や後蒸着プロセスなどの補助プロセスに使用されています。主な原子炉室は4インチ径のウェーハを同時に処理することができ、表面全体に高い熱均一性があります。反応チャンバーの最大温度は1000°Cで、1°C単位で0〜1000°Cの範囲です。プログラマブル高温ガス供給ユニット、温度制御・ガス混合機、精密ガス供給用マスフローコントローラを搭載しています。CVDリアクターには、独自のパルスガスローディングツール、リアルタイムのデジタル温度制御資産、主反応室内の二重石英犠牲窓など、さまざまな革新的な技術が搭載されています。APPLIED MATERIALTS Centura 5200 WxPはまた、さまざまなプロセスガスの熱的および非熱的統合のための高度な機能を備えています。Centura 5200 WxPのユニークな特徴の1つは、クローズドループ技術であり、手動で介入することなくCVD蒸着プロセスを自動化し、正確に制御することができます。これにより、人間の介入を最小限に抑えてプロセス制御を自動化できます。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxPは、金属、酸化物、ポリマー、機能性材料など、さまざまな薄膜およびナノ構造材料を堆積するために使用できます。ナノスケール構造から高k誘電体材料まで、幅広い複合材料を堆積することができる先進的な堆積プラットフォームです。このモデルの高温および超薄積分機能により、量子コンピューティングやセンサなどの超薄膜やナノ構造を含む研究用途に最適です。AMAT Centura 5200 WxPは強力で汎用性の高いCVD機器で、幅広い超薄膜やナノ構造を製造することができます。高度なリアルタイム温度制御、パルスガス積載、および複数のプロセスガス機能により、複雑なナノ構造や機能材料の堆積に最適です。APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxPは、クローズドループオートメーションにより、正確な温度制御と効率を必要とする研究および産業用途に適しています。