中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 Phase I #9133092 を販売中
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ID: 9133092
Oxide etcher, 8"
Wafer shape: JMF
Chamber Type/ Location Selected Option
System Configuration BASE
Position A Oxide Main Etch
Position B Oxide Main Etch
Position C Oxide Main Etch
Position F ORIENTER
Position A Configuration Oxide Main Etch
Position B Configuration Oxide Main Etch
Position C Configuration Oxide Main Etch
Position D Configuration
System Safety Equipment Selected Option
EMO Switch Type TURN TO RELEASE EMO ETI COMPLIANT
EMO Guard Ring INCLUDED
Smoke Detector At MF No Skin YES
Smoke Detector At Gen Rack YES
Smoke Detector At AC Rack YES
Water and Smoke Detector ALARM
System Labels ENGLISH
CHA - CHA - OXIDE
Chamber Options Selected Option
Process Kit USED
Turbo Pump Seikoseiki 301
Emission Endpoint Type Monocro
Oxide ESC USED Flat
BIAS RF GEN OEM-28B
MxP Oxide Throttle Butter fly
MxP Oxide Gate Valve VAT
CHB - CHB - OXIDE
Chamber Options Selected Option
Process Kit USED
Turbo Pump Seikoseiki 301
Emission Endpoint Type Monocro
Oxide ESC USED Flat
BIAS RF GEN OEM-28B
MxP Oxide Throttle Butter fly
MxP Oxide Gate Valve VAT
CHC - CHC - OXIDE
Chamber Options Selected Option
Process Kit USED
Turbo Pump Seikoseiki 301
Emission Endpoint Type Monocro
Oxide ESC USED Flat
BIAS RF GEN OEM-28B
MxP Oxide Throttle Butter fly
MxP Oxide Gate Valve VAT
Gas Delivery Options
Pallet Options Selected Option
Valve Fujikin
Regulator Fujikin
Gas Panel Pallet A Gas Panel Pallet A
Gas Line Requirement Selected Option
Pallet Pallet
Gas Line Configuration Selected Option
Pallet Corrosive Gas Line Qty 3
Pallet Inert Gas Line Qty 5
Filter Qty 8
Gas Panel Pallet B Gas Panel Pallet B
Gas Line Requirement Selected Option
Pallet Pallet
Gas Line Configuration Selected Option
Pallet Corrosive Gas Line Qty 3
Pallet Inert Gas Line Qty 5
Filter Qty 8
Gas Panel Pallet C Gas Panel Pallet C
Gas Line Requirement Selected Option
Pallet Pallet
Gas Line Configuration Selected Option
Pallet Corrosive Gas Line Qty 3
Pallet Inert Gas Line Qty 5
Filter Qty 8
Gas Panel Features Gas Panel Features
Gas Panel Features Selected Option
Gas Panel Controller VME I
Mainframe
General Mainframe Options Selected Option
Facilities Type REGULATED
Facilities Orientation MAINFRAME FACILITIES BACK CONNECTION
Loadlock/Cassette Options Selected Option
Loadlock Type NBLL W/ AUTO-ROTATION
Loadlock Cover Finish ANTI-STATIC PAINTED
Loadlock Slit Valve Oring Type VITON
Wafer Mapping STD
Wafer Out of Cassette Sensor YES
Cassette Present Sensor YES
Transfer Chamber Options Selected Option
Transfer Ch Manual Lid Hoist YES
Robot Type CENTURA HP ROBOT
Wafer On Blade Detector BASIC
Loadlock Vent BOTTOM VENT
Front Panel Selected Option
Front Panel ANTI-STATIC PAINTED
Signal Light Tower 4 COLOR SIGNAL LIGHT TOWER INCLUDING RED LIGHT
4 Color Signal Light Tower Configuration Selected Option
Top Light Color RED
Second Light Color YELLOW
Third Light Color GREEN
Fourth Light Color BLUE
Signal Light Tower Buzzer ENABLED
Second Signal Light Tower YES
Remote
System Controller Selected Option
Controller Type 86 INCH COMMON CONTROLLER
Cntrlr Electrical Interface BOTTOM FEED
Controller Exhaust TOP EXHAUST
Controller Cover Option YES
System Monitors Selected Option
System Monitor 2 TTW / different cable lengths
Monitor Cursor 2 BLINKING CURSOR
AC Rack Selected Option
GFI 30mAMP
AC Rack Types 84 INCH SLIM AC GEN RACK
Exhaust Collar 84 INCH SLIM RACK EXHAUST COLLAR
Umbilical Selected Option
Ctrlr to Mainframe Umbilical 25Ft
HX Control Cable Length 50Ft
Heat Exchanger Hose Length 65Ft
Pump Cable Length 65Ft
RF Generator Cable 65Ft
Pump Interface Only Selected Option
Pump Interface Qty Interface Only.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Phase Iは半導体製造のために設計された原子炉です。これは、56MHz RFソースを備えたSiH4/NH3/DOPエンドポイントエッチングを備えており、リン三塩化(PCl3)ベースのエッチモジュールを備えた8。5ミクロンまでのエッチング深度が可能です。チャンバーは、ステンレス鋼から構成され、より良いエッチング/プロセス互換性のための低温動作を持っています。原子炉には、プロセス制御ボックスとチャンバーの積み下ろし用の個別のエアロックが付属しています。AMAT Centura 5200 Phase Iは、内部で大きなガスタイトプロセスチャンバーを備えています。このチャンバーは、エッチング中に粒子やエッチング試薬がウェーハに侵入するのを防ぐように設計されています。最大2 in (5。08 cm)、 8000 lb (3。63トン)の半導体ウェーハに対応できます。チャンバーは、均一なエッチングと低い裏面汚染を確保するために、偏向バッフル付きの真空装置と排気煙突を備えています。内蔵のエンドポイントコントローラは、チャンバー内の圧力、ガス供給システムの状態、および電源のマグネトロン間の電流を測定することにより、エッチング処理を監視します。プロセスチャンバーには、プロセスの一貫性とパフォーマンスを向上させる自動温度補償モジュール(ATCM)も含まれています。ATCMには180°Cから260°Cの範囲があり、幅広いプロセス最適化の調整を提供します。また、プロセスパラメータを最適化するために、ユーザーが選択可能なパラメータを備えた柔軟な温度制御を備えています。エンドポイントエッチプロセスは、エッチング深度を効率的かつ正確に制御できるように設計されています。APPLIED MATERIALTS Centura 5200 Phase Iは、フルウェーブフォームプロセスコントロールユニットを備えた56 MHz RF電源のセルフチューニングを備えています。このマシンは、オペレータがさまざまなエッチング深度でウェーハをエッチングすることができ、また、ウェーハの損傷や傷跡を防ぐのに役立ちます。最後に、Centura 5200 Phase Iは、安全で信頼性が高く、再現性に優れたプロセスを提供するように設計されています。潜在的な障害が発生した場合にオペレータに警告するための安全機能が内蔵されています。このツールには、簡単な分析とトラブルシューティングのためのメンテナンスとトラブルシューティング機能も内蔵しています。したがって、AMAT/APPLIED MATERIALTS Centura 5200 Phase Iは、半導体ウェーハの効率的な生産に最適な資産です。
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