中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 Phase I #9133092 を販売中

ID: 9133092
Oxide etcher, 8" Wafer shape: JMF Chamber Type/ Location Selected Option System Configuration BASE Position A Oxide Main Etch Position B Oxide Main Etch Position C Oxide Main Etch Position F ORIENTER Position A Configuration Oxide Main Etch Position B Configuration Oxide Main Etch Position C Configuration Oxide Main Etch Position D Configuration System Safety Equipment Selected Option EMO Switch Type TURN TO RELEASE EMO ETI COMPLIANT EMO Guard Ring INCLUDED Smoke Detector At MF No Skin YES Smoke Detector At Gen Rack YES Smoke Detector At AC Rack YES Water and Smoke Detector ALARM System Labels ENGLISH CHA - CHA - OXIDE Chamber Options Selected Option Process Kit USED Turbo Pump Seikoseiki 301 Emission Endpoint Type Monocro Oxide ESC USED Flat BIAS RF GEN OEM-28B MxP Oxide Throttle Butter fly MxP Oxide Gate Valve VAT CHB - CHB - OXIDE Chamber Options Selected Option Process Kit USED Turbo Pump Seikoseiki 301 Emission Endpoint Type Monocro Oxide ESC USED Flat BIAS RF GEN OEM-28B MxP Oxide Throttle Butter fly MxP Oxide Gate Valve VAT CHC - CHC - OXIDE Chamber Options Selected Option Process Kit USED Turbo Pump Seikoseiki 301 Emission Endpoint Type Monocro Oxide ESC USED Flat BIAS RF GEN OEM-28B MxP Oxide Throttle Butter fly MxP Oxide Gate Valve VAT Gas Delivery Options Pallet Options Selected Option Valve Fujikin Regulator Fujikin Gas Panel Pallet A Gas Panel Pallet A Gas Line Requirement Selected Option Pallet Pallet Gas Line Configuration Selected Option Pallet Corrosive Gas Line Qty 3 Pallet Inert Gas Line Qty 5 Filter Qty 8 Gas Panel Pallet B Gas Panel Pallet B Gas Line Requirement Selected Option Pallet Pallet Gas Line Configuration Selected Option Pallet Corrosive Gas Line Qty 3 Pallet Inert Gas Line Qty 5 Filter Qty 8 Gas Panel Pallet C Gas Panel Pallet C Gas Line Requirement Selected Option Pallet Pallet Gas Line Configuration Selected Option Pallet Corrosive Gas Line Qty 3 Pallet Inert Gas Line Qty 5 Filter Qty 8 Gas Panel Features Gas Panel Features Gas Panel Features Selected Option Gas Panel Controller VME I Mainframe General Mainframe Options Selected Option Facilities Type REGULATED Facilities Orientation MAINFRAME FACILITIES BACK CONNECTION Loadlock/Cassette Options Selected Option Loadlock Type NBLL W/ AUTO-ROTATION Loadlock Cover Finish ANTI-STATIC PAINTED Loadlock Slit Valve Oring Type VITON Wafer Mapping STD Wafer Out of Cassette Sensor YES Cassette Present Sensor YES Transfer Chamber Options Selected Option Transfer Ch Manual Lid Hoist YES Robot Type CENTURA HP ROBOT Wafer On Blade Detector BASIC Loadlock Vent BOTTOM VENT Front Panel Selected Option Front Panel ANTI-STATIC PAINTED Signal Light Tower 4 COLOR SIGNAL LIGHT TOWER INCLUDING RED LIGHT 4 Color Signal Light Tower Configuration Selected Option Top Light Color RED Second Light Color YELLOW Third Light Color GREEN Fourth Light Color BLUE Signal Light Tower Buzzer ENABLED Second Signal Light Tower YES Remote System Controller Selected Option Controller Type 86 INCH COMMON CONTROLLER Cntrlr Electrical Interface BOTTOM FEED Controller Exhaust TOP EXHAUST Controller Cover Option YES System Monitors Selected Option System Monitor 2 TTW / different cable lengths Monitor Cursor 2 BLINKING CURSOR AC Rack Selected Option GFI 30mAMP AC Rack Types 84 INCH SLIM AC GEN RACK Exhaust Collar 84 INCH SLIM RACK EXHAUST COLLAR Umbilical Selected Option Ctrlr to Mainframe Umbilical 25Ft HX Control Cable Length 50Ft Heat Exchanger Hose Length 65Ft Pump Cable Length 65Ft RF Generator Cable 65Ft Pump Interface Only Selected Option Pump Interface Qty Interface Only.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Phase Iは半導体製造のために設計された原子炉です。これは、56MHz RFソースを備えたSiH4/NH3/DOPエンドポイントエッチングを備えており、リン三塩化(PCl3)ベースのエッチモジュールを備えた8。5ミクロンまでのエッチング深度が可能です。チャンバーは、ステンレス鋼から構成され、より良いエッチング/プロセス互換性のための低温動作を持っています。原子炉には、プロセス制御ボックスとチャンバーの積み下ろし用の個別のエアロックが付属しています。AMAT Centura 5200 Phase Iは、内部で大きなガスタイトプロセスチャンバーを備えています。このチャンバーは、エッチング中に粒子やエッチング試薬がウェーハに侵入するのを防ぐように設計されています。最大2 in (5。08 cm)、 8000 lb (3。63トン)の半導体ウェーハに対応できます。チャンバーは、均一なエッチングと低い裏面汚染を確保するために、偏向バッフル付きの真空装置と排気煙突を備えています。内蔵のエンドポイントコントローラは、チャンバー内の圧力、ガス供給システムの状態、および電源のマグネトロン間の電流を測定することにより、エッチング処理を監視します。プロセスチャンバーには、プロセスの一貫性とパフォーマンスを向上させる自動温度補償モジュール(ATCM)も含まれています。ATCMには180°Cから260°Cの範囲があり、幅広いプロセス最適化の調整を提供します。また、プロセスパラメータを最適化するために、ユーザーが選択可能なパラメータを備えた柔軟な温度制御を備えています。エンドポイントエッチプロセスは、エッチング深度を効率的かつ正確に制御できるように設計されています。APPLIED MATERIALTS Centura 5200 Phase Iは、フルウェーブフォームプロセスコントロールユニットを備えた56 MHz RF電源のセルフチューニングを備えています。このマシンは、オペレータがさまざまなエッチング深度でウェーハをエッチングすることができ、また、ウェーハの損傷や傷跡を防ぐのに役立ちます。最後に、Centura 5200 Phase Iは、安全で信頼性が高く、再現性に優れたプロセスを提供するように設計されています。潜在的な障害が発生した場合にオペレータに警告するための安全機能が内蔵されています。このツールには、簡単な分析とトラブルシューティングのためのメンテナンスとトラブルシューティング機能も内蔵しています。したがって、AMAT/APPLIED MATERIALTS Centura 5200 Phase Iは、半導体ウェーハの効率的な生産に最適な資産です。
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