中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 eMax #9183472 を販売中

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 eMax
ID: 9183472
Etcher, 8" Wafer shape: JMF SMIF Interface: No System information: Chamber A,B &C: eMax Chamber D & E: No Chamber F: Orientor Loadlock A & B: Narrow (6) Wafer sensors EPD Controller System placement: System alone Chamber details: Chamber A, B & C: RF Match: 0010-30686 RF Generator: OEM-28B ALCATEL ATH1600M Turbo pump Throttle valve Monometer: TYPE127 1TORR System monitor: Monitor 1: Stand alone Mainframe: Robot type: HEWLETT-PACKARD+ L/L Wafer mapping Slit valve / Plate type: Standard Robot blade: Ceramic W/F Slippage sensor N2 Purge Heat exchanger: No Dry pumps: No Signal tower: No Gas panel configuration: Chamber A, B & C: (7) Chambers Chamber A: CL2 100 sccm SEC-4400M CF4 100 sccm TYLAN 2900 N2 100 sccm SEC-4400 AR 300 sccm SEC-4400M O2 5 slm SEC-4400M CHF3 20 sccm SEC-4400M CF4 100 sccm SEC-4400M Chamber B: C4F8 50 sccm SEC-7440MC CO 500 sccm SEC-7440MC N2 100 sccm SEC-4400 AR 200 sccm SEC-4400M O2 50 sccm SEC-4400M CHF3 100 sccm SEC-4400M CF4 50 sccm SEC-4400M Chamber C: CL2 100 sccm SEC-7440MC CHF3 50 sccm TYLAN 2900 N2 100 sccm SEC-4400 AR 2 slm SEC-4400M O2 5 slm SEC-4400M CHF3 20 sccm SEC-4400M CF4 50 sccm SEC-4400M Missing parts: (2) Slit valves (3) Flow sensors / Coolant lines EDP Monitor Liner for chamber B Power: 208 VAC, 50/60 Hz, 4 Wire, 3 Phase delta 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 eMaxは、多層フォトレジスト成膜と除去が可能な高度な統合型Eビームウェーハ処理リアクタシステムです。先進的な半導体デバイスの製造、バイオセンサーの開発、ナノ構造の作成に最適なプラットフォームです。AMAT Centura 5200 eMaxは、5 nAから200 mAまでのビーム電流レベルでフォトレジストの沈着および除去に電子ビーム(e-beam)リソグラフィを使用しています。電子ビームは円軸に沿って動き、基板にレジスト層を蒸発させるために使用される電界を作成します。APPLIED MATERIALS Centura 5200 eMaxはマルチユーザーインターフェースを備えており、複数の処理手順を同時に実行できます。このシステムは、レジスト沈着と除去の両方のための制御された雰囲気、ならびにアプリケーションに使用される種にカスタマイズ可能な温度、圧力、およびガス/湿度制御機能を提供します。Centura 5200 eMaxは、2500oCの最大フィラメント温度を備えており、真空1E-7 Torrと8"基板サイズで、アルミニウム相互接続および深部トレンチ技術を含むアプリケーションに有利です。さらに、高度なコーディングオートメーションとレシピ管理により、プロセスの再現性とパフォーマンスを向上させます。さらに、AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 eMaxのクローズドループイメージングおよびアライメント機能により、スループットを最適化し、手動で介入することなく信頼性の高い動作を保証します。さらに、包括的なプロセスモニタにより、リアルタイムのデータ収集と複数のリソグラフィ工程の統計分析が可能になります。AMAT Centura 5200 eMaxは非常に高精度で動作し、カスタマイズと最適化のための多数のオプションを提供しています。多層フォトレジスト成膜や除去など、さまざまな電子ビーム露光サービスを処理することができるため、高度なウエハ加工に最適です。
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