中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 eMax #9183472 を販売中
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ID: 9183472
Etcher, 8"
Wafer shape: JMF
SMIF Interface: No
System information:
Chamber A,B &C: eMax
Chamber D & E: No
Chamber F: Orientor
Loadlock A & B: Narrow
(6) Wafer sensors
EPD Controller
System placement: System alone
Chamber details:
Chamber A, B & C:
RF Match: 0010-30686
RF Generator: OEM-28B
ALCATEL ATH1600M Turbo pump
Throttle valve
Monometer: TYPE127 1TORR
System monitor:
Monitor 1: Stand alone
Mainframe:
Robot type: HEWLETT-PACKARD+
L/L Wafer mapping
Slit valve / Plate type: Standard
Robot blade: Ceramic
W/F Slippage sensor
N2 Purge
Heat exchanger: No
Dry pumps: No
Signal tower: No
Gas panel configuration:
Chamber A, B & C: (7) Chambers
Chamber A:
CL2 100 sccm SEC-4400M
CF4 100 sccm TYLAN 2900
N2 100 sccm SEC-4400
AR 300 sccm SEC-4400M
O2 5 slm SEC-4400M
CHF3 20 sccm SEC-4400M
CF4 100 sccm SEC-4400M
Chamber B:
C4F8 50 sccm SEC-7440MC
CO 500 sccm SEC-7440MC
N2 100 sccm SEC-4400
AR 200 sccm SEC-4400M
O2 50 sccm SEC-4400M
CHF3 100 sccm SEC-4400M
CF4 50 sccm SEC-4400M
Chamber C:
CL2 100 sccm SEC-7440MC
CHF3 50 sccm TYLAN 2900
N2 100 sccm SEC-4400
AR 2 slm SEC-4400M
O2 5 slm SEC-4400M
CHF3 20 sccm SEC-4400M
CF4 50 sccm SEC-4400M
Missing parts:
(2) Slit valves
(3) Flow sensors / Coolant lines
EDP Monitor
Liner for chamber B
Power: 208 VAC, 50/60 Hz, 4 Wire, 3 Phase delta
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 eMaxは、多層フォトレジスト成膜と除去が可能な高度な統合型Eビームウェーハ処理リアクタシステムです。先進的な半導体デバイスの製造、バイオセンサーの開発、ナノ構造の作成に最適なプラットフォームです。AMAT Centura 5200 eMaxは、5 nAから200 mAまでのビーム電流レベルでフォトレジストの沈着および除去に電子ビーム(e-beam)リソグラフィを使用しています。電子ビームは円軸に沿って動き、基板にレジスト層を蒸発させるために使用される電界を作成します。APPLIED MATERIALS Centura 5200 eMaxはマルチユーザーインターフェースを備えており、複数の処理手順を同時に実行できます。このシステムは、レジスト沈着と除去の両方のための制御された雰囲気、ならびにアプリケーションに使用される種にカスタマイズ可能な温度、圧力、およびガス/湿度制御機能を提供します。Centura 5200 eMaxは、2500oCの最大フィラメント温度を備えており、真空1E-7 Torrと8"基板サイズで、アルミニウム相互接続および深部トレンチ技術を含むアプリケーションに有利です。さらに、高度なコーディングオートメーションとレシピ管理により、プロセスの再現性とパフォーマンスを向上させます。さらに、AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 eMaxのクローズドループイメージングおよびアライメント機能により、スループットを最適化し、手動で介入することなく信頼性の高い動作を保証します。さらに、包括的なプロセスモニタにより、リアルタイムのデータ収集と複数のリソグラフィ工程の統計分析が可能になります。AMAT Centura 5200 eMaxは非常に高精度で動作し、カスタマイズと最適化のための多数のオプションを提供しています。多層フォトレジスト成膜や除去など、さまざまな電子ビーム露光サービスを処理することができるため、高度なウエハ加工に最適です。
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