中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ #9206456 を販売中
この商品は既に販売済みのようです。下記の同じようなプロダクトを点検するか、または私達に連絡すれば私達のベテランのチームはあなたのためのそれを見つけます。
タップしてズーム
販売された
ID: 9206456
ウェーハサイズ: 8"
CVD System, 8"
Chamber A:
DXZ SiN
Clean method: RF
Frequency: Single HF only
Throttle valve type: Dual spring
Manometer: Dual 10/100 Torr
Chamber B:
DXZ SiN
Clean method: RF
Frequency: Single HF only
Throttle valve type: Dual spring
Manometer: Dual 10/100 Torr
Chamber C:
DXZ SiN
Clean method: RF
Frequency: Single HF only
Throttle valve type: Dual spring
Manometer: Dual 10/100 Torr
Chamber E: MS Cool
Mainframe:
System placement: Through the wall
Robot type: HEWLETT-PACKARD Robot
Robot blade: Nickel coated AL
OTF: Yes
W/F Position sensor: Yes
Loadlock:
Loadlock cassette: Narrow
Wafer slide sensor: Yes
Wafer mapping: Basic
N2 Purge type: TYLAN 2900
System monitor:
1st Monitor: Through the wall
2nd Monitor: Stand alone
Generator rack:
(3) Racks
Generator 1: AE RFG 2000-2V
Generator 2: AE RFG 2000-2V
Generator 3: AE RFG 2000-2V
Heat exchanger:
APPLIED MATERIALS, AMATO
Chiller: No
Dry pumps: No
Signal tower: No
Umbilicals:
Monitor: 55 ft
Signal cable length (S/C ~ MF): 50 ft
HX Cable length: 55 ft
Gas delivery option:
MFC Type: STEC 4400 MC
Valves: Veriflo 10 ra max
Filters: MILLIPORE
Transducers: MKS W/O Display
Regulators: Veriflo
Single line drop (SLD): No
System cabinet exhaust: Top
System controller:
Slot Rack BD
2 System Reset
3 Lk Det 1 &2 or Conv/TC
4 Lk Det 3&4 or Conv/TC
5 Lk Det 5&6 or Conv/TC
6 Lk Det 7&8 or Conv/TC
9 EWOB Centerfinder
12 Floppy disk drive
13 Hard disk drive
14 Chamber A interface
15 Chamber B interface
16 Chamber C interface
17 Chamber D interface
18 Chamber E interface
19 Mainframe interface
20 Loadlock interface
22 Chamber A Dl/O 2
23 Chamber B Dl/O 1
24 Chamber B Dl/O 2
25 Chamber C Dl/O 1
26 Chamber C Dl/O 2
29 Chamber E Dl/O
30 Synergy SBC(V440)
32 Video
33 I/O Expansion
34 SEI
35 Chamber A Al/O
36 Chamber B Al/O
37 Chamber C Al/O
39 Mainframe Al/O 1
40 Chamber E/MF Al/O 2
41 Mainframe Dl/O 1
42 Mainframe Dl/O 2
43 Mainframe Dl/O 3
44 Mainframe Dl/O 4
45 Mainframe Dl/O 5
46 Mainframe Dl/O 6
47 Stepper 1
48 Stepper 2
49 Stepper 3
50 OMS (VMEX)
RF Generator:
Chamber Maker Model
A AE RFG 2000-2V 3155053-003B
B AE RFG 2000-2V 3155053-003B
C AE RFG 2000-2V 3155053-003B
RF Match box:
Match multifunctional ADPTR
With interlock 7-J14 OHM
Chamber Maker Model
A AE 155077-003B
B AE 315S077-C03A
C AE 315S077-C03A
Power: 200/208 V, 240 A.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZは、半導体、ディスプレイ、太陽光発電産業の先端材料の製造に使用される高性能、多加工プラズマ強化化学蒸着（PECVD）リアクターです。このツールは、高生産性の酸化物層、PERL 用PECVD a-Si材料の蒸着、大口径基板への超薄型層蒸着など、1つのシステムで幅広い材料加工の課題に対応できるように設計されています。3次元で優れた機能制御を提供し、重要なコンポーネントのトポロジを正確に制御します。AMAT Centura 5200 DxZには、業界最先端のチャンバーエンジニアリングが搭載されています。8インチまでの様々なサイズの基板を処理できるウエハ基板ジオメトリを備えており、高度に設計された前処理チャンバとメイン（加工）チャンバで構成されています。プロセス動作中の均一性と一貫性を確保するために、チャンバは温度制御され、安定した熱条件を確保するために密接に監視されます。APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZには、プロセス制御の自動化、温度のリアルタイム監視、プログラム可能なレシピ作成を可能にする多数の直感的なソフトウェアパッケージも装備されています。これにより、生産中の工具の効率とプロセスの一貫性を最適化することができ、所有コストの削減に役立ちます。スループットを向上させるために、Centura 5200 DxZは、2つの基板の同時処理を可能にするデュアルノズル設計や、より高い蒸着速度を達成できるデュアルフェーズ変調プロセスなど、いくつかの高度な機能を提供します。チャンバーの設計には、メンテナンスサイクルの数を削減し、従来のアプローチよりも生産コストをさらに低減するための高度な窓のない蒸発技術も含まれています。さらに、AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZは、高効率のプロセスガスデリバリーシステムを使用して、前駆体や化学物質の使用量を削減し、材料のコストを削減し、環境負荷を低減するのに役立ちます。AMAT Centura 5200 DxZは、高度で汎用性の高い原子炉であり、高度な材料を正確に製造するための最先端のソリューションをユーザーに提供します。直感的で高度に自動化されたソフトウェアとさまざまな高度な機能を使用することで、高度な材料加工に頼る業界の変化するニーズに応えることができます。
まだレビューはありません