中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ #9198724 を販売中
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ID: 9198724
ウェーハサイズ: 8"
CVD System, 8"
Loadlock Indexer
Process chamber lift
HP Robot
System information:
(3) Chambers:
Chamber A: DXZ SiN
Chamber B: DXZ SiN
Chamber C: DXZ SiN
Chamber E: MS Cool
LLA: Narrow
LLB: Narrow
Mainframe:
System placement: Through the wall
Robot type: HP Robot
Robot blade: Nickel coated AL
OTF
W/F Position sensor
Loadlock:
Loadlock cassette: Narrow
Wafer mapping: Basic
N2 Purge type: Tylan 2900
Chamber A, B and C:
Clean method: RF
Frequency: Single HF
Throttle valve type: Dual spring
Manometer: Dual 10/100 torr
Electrical:
Line frequency: 50/60 Hz
Line voltage: 200/208 V
Line amperage: 240A
System monitors:
1st Monitor: Through the wall
2nd Monitor: Stand alone
Generator (AC) rack:
(3) Generators: AE RFG 2000-2V
Umbilicals:
Monitor: 55ft
Signal cable length (S/C ~ MF): 50ft
HX Cable length: 55ft
Gas delivery options:
MFC Type: STEC 4400 MC
Valves: Veriflo 10 Ra Max
Filters: Millipore
Transducers: MKS with out display
Regulators: Veriflo
System cabinet exhaust: Top
Gas pallet configuration:
Chamber A, B & C: SEC4400
System controller:
Slot Top rack BD
2 System reset
3 Lk Det 1&2 orConv/TC
5 Lk Det 5&6 orConv/TC
6 Lk Det 7&8 orConv/TC
9 EWOB Centerfinder
12 Floppy disk drive
13 Hard disk drive
14 Chamber A interface
15 Chamber B interface
16 Chamber C interface
18 Chamber E interface
19 Mainframe interface
20 Loadlock interface
21 Chamber A Dl/O 1
22 Chamber A Dl/O 2
23 Chamber B Dl/O 1
24 Chamber B Dl/O 2
25 Chamber C Dl/O 1
26 Chamber C Dl/O 2
29 Chamber E DI/O
30 Synergy SBC(V440)
32 Video
33 I/O Expansion
34 SEI
35 Chamber A Al/O
36 Chamber B Al/O
37 Chamber C Al/O
39 Mainframe Al/O 1
40 Chamber E/MF Al/O 2
41 Mainframe Dl/O 1
42 Mainframe Dl/O 2
43 Mainframe Dl/O 3
44 Mainframe Dl/O 4
45 Mainframe Dl/O 5
46 Mainframe Dl/O 6
47 Stepper 1
48 Stepper 2
49 Stepper 3
50 OMS (VMEX)
RF Generator:
Chamber Maker Model
A, B & C AE RFG 2000-2V 3155053-003B
RF Match box (Match multifunction adapter with interlock 7-J14 OHM):
Chamber Maker Model
A AE 3155077-003B
B & C AE 3155077-003A
Heat exchanger:
APPLIED MATERIALS AMAT0 Heat exchanger, 0010-70008.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZは、マイクロエレクトロニクス製造のための新しいレベルの精度と性能を備えた半導体炉です。AMATの高度な製造技術を活用して、小型、精密、一貫した機能を生産します。この原子炉は高度なイオン源で設計されており、エッチングチャンバーからイオンを素早く追加および除去してプロセス性能を向上させることができます。ハイエンドイオンソースは、正確なエッチングのための優れた制御と精度を提供します。AMAT Centura 5200 DxZは、次世代のチャンバー設計も備えています。このチャンバーには4つの壁があり、すべて手で作業するように設計されており、材料損失を最小限に抑えた高品質で正確なエッチングを実現しています。壁はエッチングレシピを区切るための高精度な壁として機能し、操作中の優れた温度と圧力制御を提供します。また、壁は静かな操作を促進しながらも、完全な精度を保証します。APPLIED MATERIALTS Centura 5200 DxZは、独自の基板ホルダーを使用して基板を確実に固定し、精密なエッチングを実現します。また、原子炉にはコンピューター制御の自動ガス混合システムが含まれており、正確なエッチングのために適切な量のガスがエッチング室に供給されることを保証します。使用されるガスは窒素、アルゴン、酸素です。インターフェース付きRFジェネレータは、正しいエッチング処理に必要な電力を提供します。Centura 5200 DxZは、半導体およびMEMS製造環境向けに設計されています。25ナノメートルのサイズの大小のウエハを加工することができます。この原子炉のパワーハウスは、比類のない精度で設計、薄型化、エッチング、パッシベーション機能に最適です。さらに、ドライエッチング、ウェットエッチング、プラズマエッチング、リアクティブイオンエッチング、ディープリアクティブイオンエッチング、イオン化された物理エッチングを含む複数のエッチング環境とエッチングのレシピで動作するように設計されています。これにより、AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZは、強力で正確で一貫した製品を製造するのに最適です。
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