中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS R1 #9099752 を販売中
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ID: 9099752
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1998
Metal etcher, 8"
Wafer type: 8" SNNF
(2) DPS R1 metal chambers
(2) ASP+ chambers
(1) Orienter
(1) Cool down
Load Locks: wide body with auto-rotation
Robot: VHP+
Platform type: Etch Centura Phase II
SMIF: not available
RF rack, GMW25
Chamber A & B: DPS R1 Metal
Single cathode
Turbo pump: Seiko Seiki STP-H1303
Upper chamber body: Y2O3 coating
Electrostatic chuck type: polymide ESC
Upper chamber o-ring: Viton
Dome and EDTCU: R1 DTCU
Endpoint type: monochromator
Bias generator: ACG 6B
Bias match: STD
Capture ring: STD polymide ESC
Source generator: STD 2500W
Slit valve o-ring: Viton
Throttle Gate Valve: TGV VAT65
Chamber C & D: APS+
Process kit: chuck
O-ring: silicon
Process control: manometer
Slit valve o-ring: Viton
Plasma tube o-ring: Kalrez
Microwave
Smart match
Magnetron head
Applicator
VDS assembly
Chamber E: STD cool down
Chamber F: orienter
Gas Panel: control VME 1
Controller: Centura common rack
Generator rack: 84" rack
Line frequency: 50Hz
Loadlock / Cassette:
Loadlock type: WBLL with auto-rotation
Loadlock platform: universal
Cassette type supported: KA200 85MTRHS 47C02
Loadlock cover finish: anti-static painted
Loadlock slit valve o-ring type: Viton
Wafer mapping: enhanced
Integrated cassette sensor: yes
Transfer Chamber:
Manual lid hoist: yes
Robot type: Centura VHP+
Robot blade option: roughened Al blade
Wafer on blade detector: basic
Loadlock vent: bottom
Signal Light Tower: 3-color, front panel
Top light color: red
Second light color: yellow
Third light color: green
Light tower buzzer: disabled
Endpoint:
Mounting: stand alone
Cart: 56" tall, painted
Monochromators: (2)
Total Endpoints: (2)
System Controller:
Standard GEM interface: yes
Controller type: 84" common controller
Electrical interface: bottom feed
Exhaust: top
System Monitors:
Type: CRT
Monitor 1: stand alone
Cables: 25'
AC Rack:
GFI: 30mA
Type: 84"
Controller facility interface: remote UPS interface only
Generator Rack:
Cooling water: water manifold
Manifold facilities: 3/4" compression tube fittings
Gas Delivery Options:
Vapor Delivery System (VDS): Ultra Clean
Component selection: premium
Valve: Fujikin
Transducer: Millipore
Regulator: Veriflo
Filter: Millipore
Transducer displays: (1) display per stick
MFC type: Unit 8160
Gas Panel Pallet: A/B
Gas Line Requirement: 4/6
Gas Line Configuration:
Line 1 Gas CL2 MFC Size 200 SCCM
Line 2 Gas BCL3 MFC Size 100 SCCM
Line 5 Gas N2 MFC Size 20 SCCM
Line 6 Gas EMPTY MFC Size EMPTY
Line 7 Gas CHF3 MFC Size 20 SCCM
Line 8 Gas O2 MFC Size 500 SCCM
Line 9 Gas SF6 MFC Size 200 SCCM
Line 10 Gas AR-S MFC Size 200 SCCM
Pallet Corrosive Gas Lines: (2)
Pallet Inert Gas Lines: (5)
Filters: (7)
Gas Panel Pallet C/D:
Gas Line Requirement: 0/4
Gas Line Configuration:
Line 3 Gas O2 MFC Size 5 SLM
Line 4 Gas N2-S MFC Size 1 SLM
Line 5 Gas VDS MFC Size 750 sccm
Pallet Inert Gas Lines: (3)
Filters: (3)
Gas panel facilities hook-up: top feed, multi-line drop
Gas panel exhaust: BD chamber side top
Gas panel controller: VME
Safety:
EMO switch: turn to release, ETI compliant
EMO guard ring: included
Smoke detector at controller: yes
Smoke detector at MF no skin: yes
50 Hz
1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS R1は、高性能エピタキシャル層の堆積用に設計された強力なマルチモジュール生産プラットフォームです。この原子炉は、高品質で欠陥密度の低い材料を製造するように設計されており、複雑で次世代の光電子デバイスの生産を可能にしています。AMAT Centura 5200 DPS R1は、マルチモジュール技術、高度な表面解析技術、多彩な蒸着技術を1つのプラットフォームに統合します。装置は、メインフレーム、ハッチ、プロセスチャンバー、およびプロセスの信頼性と均一性を達成するためのロードロックで構成されています。付属のモジュールは、制御システム、電源、ガスマニホールド、イオン源、ターボ分子ポンプ、圧力コントローラ、および侵食源です。メインフレームは、ソース、チャンバ、および重要なコンポーネントを統合して、ウェーハ全体のソースの均一性分布を可能にします。コントロールユニットは、レシピ駆動プロセスを備えており、さまざまな監視および制御機能を備えています。また、高度な表面解析技術を採用し、プロセスの精度を確保しながら成果を上げることができます。APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS R1には、効率的な工具操作を可能にする高度なデータ収集およびプロセス制御ソフトウェアが搭載されています。このソフトウェアは、資産内の複数のコンポーネントにリンクされており、ウェーハ温度、反応ガス流量、圧力、反応ガス分布などのパラメータを監視および制御するために使用できます。この原子炉のチャンバーは熱的および機械的に安定しており、正確なプロセスの再現性と均一性を可能にします。Centura 5200 DPS R1はドライエッチングとイオンインプラントの両方の機能を備えており、柔軟性の向上とより大きなアプリケーションを実現します。プロセスの多様性は、金属有機化学蒸着（MOCVD）や原子層蒸着（ALD）など、様々な蒸着技術が組み込まれていることでさらに支えられています。全体として、AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS R1は、高性能な特性と欠陥密度の低い光電子デバイスを作成するのに理想的な先進的な生産プラットフォームです。これは、均一性とプロセスの再現性を達成するための高度な表面解析技術と多目的な蒸着機能を提供します。この堅牢なモデルにより、ユーザーは複雑で複雑なデバイスや材料を生産することができます。
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