中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 4.0 #189613 を販売中

AMAT Centura 4。0は、高度なプロセス開発と生産のために開発された高度な化学反応装置です。これは、クラスタツールプラットフォームと完全なシステム統合プラットフォームであり、堅牢な一連の機能を提供します。このユニットは、高いスループットプラットフォームとスケーラビリティを提供し、新しいプロセス開発に対応するために急速にカスタマイズされるように設計されています。プラットフォームの中核にはデュアルゾーンチャンバーがあり、基板とプロセスエネルギーの均一なバランスと最適化されたフォーカシングのための理想的な環境を提供します。デュアルゾーンチャンバー内の大気の精密な制御は、優れたプロセスの均一性と再現性を生み出し、Centura 4。0に固有のものです。Centura 4。0は、プロセス環境に対する優れた制御を提供するだけでなく、複数のプログラマブルパラメータ、マルチステージポンピング機能、適応プロセス制御（APC）など、幅広い高度な機能を提供しています。Centura 4。0はまた、基板や加工材料の積み降ろしを容易にする自動マテリアルハンドリングツール（AMHS）を備えた包括的なウェットプロセス機能を備えています。AMHSは、迅速なサンプルの積み下ろしと、プロセス最適化実験に伴うダウンタイムの低減を可能にします。Centura 4。0は、適応プロセス制御（APC）モジュールと、プロセスの最大使用率と最適化のための独自のプロセス複製スキームも提供します。APCモジュールは、プロセス結果を分析し、プロセスのパフォーマンス結果を最適化するために、現場でのプロセスパラメータの迅速な調整を可能にします。プロセスレプリケーションモジュールは、モジュールの移動、環境条件の変化、または新しい処理化学の導入によって引き起こされるすべてのタイムリーな修正または最小化を保証し、常に最適なプロセスの均一性を確保します。また、Centura 4。0では、高度な視覚的フィードバック、リアルタイムトラッキング、レギュレーションアセットを提供し、すべてのプロセスレシピを正確かつ一貫して追跡することができます。これらのすべての機能を組み合わせることで、Centura 4。0は優れたプロセス性能を提供することができます。結論として、Centura 4。0は高度な化学反応モデルであり、高スループットプラットフォーム、スケーラビリティ、および迅速なプロセスチューニング機能を提供します。高精度プロセス制御、適応プロセス制御、プロセス複製スキーム、視覚的フィードバックを備えた自動マテリアルハンドリング装置を提供しています。これらの機能はすべてCentura 4。0に集約され、高度なプロセス開発と生産のための強力で信頼性の高い化学反応システムを作成します。