中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 4.0 Radiance #9072172 を販売中

AMAT Centura 4。0 Radiance Reactorは、高いスループット能力を利用して最適な性能を提供する半導体加工装置です。直径200mmまでの基板加工が可能な4 チャンバーCVDシステムです。安定性、信頼性、スケーラビリティが高いCentura 4。0 Radiance Reactorは、半導体業界で最も要求の厳しい課題に対応するよう設計されています。Centura 4。0 Radiance Reactorの4つのチャンバーは、拡散、エッチング、化学蒸着など、さまざまな用途に最適化されています。各チャンバーは、最大4。2 std L/minの大量のガスをポンプで送ることができ、均一な流れと一定の圧力で高効率な処理が可能です。また、150°Cまたは1000°Cの低温を維持できる高度な温度制御ユニットを備えており、幅広いプロセス要件を提供します。さらに、改善されたガス処理コンポーネントとリモートモニタリングを使用することで、すべてのチャンバーで均一なプロセス制御が可能になります。部屋の壁は石英でできており、内部の表面はニッケルで処理され、長期的な安定性を確保し、汚染を防ぎます。また、ブラシやベアリングなどの交換部品が不要な非接触ドライブツールを採用し、資産の信頼性をさらに高めています。さらに、4つのチャンバーと高効率のプロセスガスデリバリーモデルを組み合わせた高スループット機能により、プロセス全体のコストを最小限に抑えながら最大のスループット性能を実現します。Centura 4。0 Radiance Reactorは、自動点火装置、強化された安全のための機械チャンバー・インターロック、大量の排気を正常かつ迅速に排出することができる十分に設計された換気システムなど、多くの安全機能を備えています。さらに、このユニットは、SEMI S94およびNFPAおよびATEX要件を含む業界の安全基準を満たすように設計されています。Centura 4。0 Radiance Reactorは、幅広い先進的な半導体アプリケーションに最適です。信頼性の高い高スループット機能、拡張性、優れたプロセス制御を組み合わせることで、急速に成長しているこの業界のメーカーにとって理想的な選択肢となります。