中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 4.0 Radiance #9072014 を販売中

AMAT Centura 4。0 Radiance Toolは、高度な半導体製造アプリケーション向けに設計された高性能な蒸着装置です。この原子炉は、超精密なプロセス制御、最大の生産性、優れたデバイスと製品品質のための卓越した柔軟性、および最大の投資収益率を提供します。Centura 4。0 Radianceには、フローティングゾーンMOCVDソース、複数のリモートプラズマソース、統合エッチング、in situ、および室内計測機能を含む高度なプロセス技術が搭載されています。また、分散均一な基板表面に高精度に蒸着するための低圧クライオジェニックや、生産性を高めるための高いスループット率を備えています。フローティングゾーンMOCVDソースは、高精度ドーピングのために設計されており、高品質のデバイス沈着のために± 5 μ mの分解能を持ち、基板全体でほぼ完璧なデバイスの均一性を実現します。この酸化物エッチング技術は、さまざまな半導体デバイス蒸着アプリケーションにおいて、高い柔軟性、選択性、および高深度の均一性を兼ね備えています。高い水晶処理温度により、欠陥の少ない最適なシリコンデバイスプロファイルが保証されます。リモートプラズマソースは、コストとメンテナンス要件を削減するために、革新的で高度に構成可能なシングルモジュール設計を備えています。この設計は内部ガスシールを必要とせず、プロセスの複雑さを軽減し、ダウンタイムを短縮します。in situの部屋の電気特性測定システムはより速い測定を可能にし、優秀な精密のためのサイクル時間を減らします。この高度な分光計測ユニットは、デバイスを100nmのフィーチャーサイズまで特性評価し、より低いバイアス電圧で定量的なプロセスデータを提供します。SureCEMの室外計測機は、測定時間を最大3倍に短縮し、従来のX線技術に比べて試験精度を最大10倍に向上させます。Centura 4。0 Radianceは、デバイスの生産性に優れた超高スループットプロセス向けに設計されています。デジタルコントロールと組み合わされた高速レンズツールは、基板スキャン速度を最適化して効率を向上させますが、コンパクトな設計では個別のプレバキュームシーケンスとポストバキュームシーケンスを必要とせず、サイクルタイムが短縮されます。リアクターには、リアルタイムのプロセス監視とレポートを提供する統合ウェーハバイウェーハデータ管理アセットであるCore Controlも装備されています。