中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 4.0 Radiance #9070281 を販売中

AMAT Centura 4。0 Radianceは、高度なシングルウェーハ熱化学蒸着（CVD）リアクターです。それは優秀な均等性、重大な次元の均等性および付着の酸化物、窒化物および金属フィルムの生産のために設計されています。Centura 4。0 Radianceは、高度な半導体デバイスの製造に最適です。リアクタは、ロードロックとウェハマッピングチャンバーを備えた水平CVD対応チャックを備えています。これにより、基板の効率的な積み下ろし、および正確な機器制御が可能になります。ロードロックとウェーハマッピングチャンバーは、ユーザーにさらなるプロセス制御と安全性を提供します。一方、シングルウェーハの水平方向は均一性を高め、汚染を低減します。チャンバーは、難燃性でエポキシのメンテナンスを最小限に抑えるオールセラミック設計で構成されています。Centura 4。0 Radianceは、ガスインジェクタシステムとプラズマ露出ボリュームリダクションテクノロジー（PVR）を備えたSmartwallプロセスチャンバーで構築され、すべてのプロセスの実行に統一されたCVDプロセスフローを提供します。このユニークなユニットは、ユーザーが圧力プロファイルと温度にガスの流れからチャンバー条件を制御することができます。PVRの注入機械は反応性ガスの総制御を提供し、更に均等性および一貫した結果を保障します。さらに、Centura 4。0 Radianceは、CoolFlush RFツールを備えたEtch Readyを備えており、ネイティブ酸化物とコンフォーマルクリーニングを均一に除去できます。この原子炉には、ユーザーフレンドリーなビジュアルディスプレイと診断機能を備えたRecipe Edition 4。0プロセス制御ソフトウェアパッケージも組み込まれています。このソフトウェアには、レシピやストップウォッチを監視して処理時間を追跡するProcess Metricsなどの機能が含まれています。ソフトウェアは、堆積プロセスの完全な制御と管理を提供します、ロードとプログラムの構成からレシピの実行とデータ分析、製品の品質を確保します。全体として、APPLIED MATERIALTS Centura 4。0 Radiance CVD炉は、酸化物、窒化物、および金属の高温および短時間の処理のための効率的で信頼性が高く、費用対効果の高いソリューションです。それは優秀な付着および顕著なステップ適用範囲の重大な次元そしてシート抵抗の優秀な均等性を提供します。これにより、先進的な半導体デバイス製造プロセスに最適です。