中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 4.0 DPN Gate Stack #293812988 を販売中

AMAT Centura 4。0 DPNゲートスタックは、高度な集積回路を製造するための化学蒸着（CVD）炉です。これは、最先端のケイ化物、誘電体、金属接触、および不動態化ゲート酸化物を含むさまざまな材料の堆積を可能にするマルチチャンバー機器です。このシステムには、圧力と流量を正確に制御するための堅牢なガス管理ユニットが装備されています。また、原子炉は温度制御ユニットを備えており、すべてのチャンバーで正確な温度制御が可能です。機械全体に分散された高解像度温度センサにより、温度制御がさらに強化されます。Centura 4。0には、プロセスチャンバーの均一性を確保するために最先端のロードロックが装備されており、低基板キャパシタンスを備えているため、再現性が向上し、充電が削減されます。蒸着プロセスでは、チャンバーにウェーハキャリアがあらかじめロードされ、その後、一般的に50ミリリットル以下の特定の圧力にポンピングされます。ウェーハ基板をロードロックにトランフェリングし、トランスファーチャンバーを閉じて絶縁環境を構築します。ガスが導入され、すべての流れが正確に検出され、監視されます。その後、温度と圧力が調節され、チャンバー全体の均一性が確保され、プロセス化学が開始されます。集積回路で使用される様々な材料は、堆積パラメータに基づいてウェーハ基板に堆積することができます。これには、ケイ化物、誘電体、金属接触体、および不動態化ゲート酸化物、および高k誘電体が含まれます。これらの材料は、望ましい温度が達成されることを確実にするために同軸監視され、適切な反応を保証するために、シランなどのいくつかのプロセスガスの濃度を監視することも可能です。プロセスが完了すると、ウェーハはトランスファーチャンバーから解放され、ウェーハトランスポーターにロードされ、出荷または最終計測の準備ができます。Centura 4。0 DPN Gate Stackは、エンジニアや科学者に高度な集積回路を迅速かつ効果的に製造する能力を提供し、結果としてより高い歩留まりとパフォーマンスを向上させます。