中古 AMAT / APPLIED MATERIALS AMC 7821 #9315234 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS AMC 7821リアクターは、高品質の薄膜の成長のために特別に設計された化学エンジニアリングツールです。この原子炉は、デュアルチャンバー、垂直シャフト設計とセラミック製の微細加工チャンバを組み合わせており、光学活性半導体層の高均一な成長を可能にします。AMAT AMC 7821リアクターは、高い均質性、低い基質汚染、正確な温度制御、低い音響ノイズなどの高度な機能を提供する最先端の化学蒸着（CVD）装置です。システムは1-5 Torrまたは大気圧の圧力範囲で動作し、350°Cまで温度に達します。APPLIED MATERIALS AMC 7821リアクターのデュアルチャンバー設定は、高純度の環境を維持するのに役立ちます。上部チャンバーはサセプターとセラミック微細加工チャンバーを持ち、下部チャンバーは排気チャンバーと蒸着チャンバーを内蔵しています。ガスの流れは、細かい制御を持つ中央多様体によって構成されています。サセプターはグラファイト発熱体を含む要素で、垂直調整可能なシャフトに取り付けられています。調節可能なシャフトは、サセプターからの基板の距離を正確に制御するのに役立ちます。セラミック微細加工チャンバーは、汚染物質のないフィルムの効率的な均一な成長を保証します。AMC 7821リアクターの柔軟な設計により、ユーザーは成長している材料に応じて複数のプロセスガスチャネルを選択できます。ガスは中央に取り付けられたインジェクターヘッドを介して注入され、管状マニホールドを介して反応室に送られます。また、正確で均一なドーピングプロファイルを確保するための反応ガス制御も提供されており、光学活性層に理想的な単位となっています。AMAT/APPLIED MATERIALS AMC 7821リアクターの排気回収機には、汚染物質の迅速かつ簡単な洗浄と処分を保証する再生可能なスチールコンテナが含まれています。再生利用可能な容器はまた光学材料の分析および特性化のための永久的な、非可燃性の環境のサンプルのコレクションを容易にします。全体として、AMAT AMC 7821リアクターは、信頼性と精度の高い温度制御、高い均質性、低い音響ノイズ、および薄膜蒸着の優れた均一性を提供する先駆的で汎用性の高いリアクターです。APPLIED MATERIALS AMC 7821 Reactorのコンポーネントの比類のない品質は、まれなレベルの信頼性と性能を提供し、幅広い光学活性層の堆積作業に理想的なツールです。