中古 AMAT / APPLIED MATERIALS / AKT 4300 #9383296 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 4300は、水平方向のシングルウェーハプロセスチャンバーを備えたプラズマエッチングおよび蒸着炉です。エッチング、蒸着、高密度プラズマ（HDP）プロセスをハイスループットで実行でき、優れた再現性とプロセス制御が可能です。AKT 4300は、シングルステップおよびマルチステップエッチングおよび蒸着プロセスなど、幅広いプロセスアプリケーションを実行できる生産対応型リアクタです。ヘリウム、窒素、アルゴン、塩素ベースのガスなど、さまざまなプロセスガスを使用しています。高度なガス制御装置は、プロセスチャンバー全体で正確かつ再現可能なプラズマ化学制御を保証します。この原子炉は、最先端のプラズマ生成、監視、制御技術を利用しています。磁気プラズマ閉じ込めシステムは、優れたプロセスの均一性と制御を可能にし、高度なウェハモーション制御ユニットは、正確なウェハの輸送と処理を保証します。統合されたプロセス制御マシンは、条件の変化に応じてパラメーターを自動的に調整します。この原子炉は、過酷なプラズマエッチングおよび高密度プラズマ（HDP）アプリケーション用のハイエンドSiおよびSiGeドーピングをサポートする高度なPECVDプロセスを利用しています。また、浅いトレンチ絶縁（STI）アプリケーションでRIEをマッピングし、並列で動作する機能も備えています。この原子炉には、優れたプロセス性能を提供するin situ容量結合プラズマ（CCP）ソースが装備されています。この原子炉は、高温・高圧に耐えることができ、大容量の生産環境での24時間365日稼動を想定して設計されています。直径8インチまでのウェーハに対応し、最大200W/cmで加工できます。また、高度な真空および圧力制御システムを組み込んで、再現性のあるトラブルのない動作を保証します。AMAT 4300は高度なデバイス製造のニーズを満たす汎用性の高い原子炉です。さまざまな化学物質をエッチングして沈殿させることができ、優れたプロセス能力を提供し、ユーザーはさまざまなデバイス構造やプロセスを開発および精製することができます。高度な設計と高度なプロセス制御ツールにより、4300は、高度なデバイス製造のためのスループット、再現性、およびプロセス制御を向上させることができます。