中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 7710A #9095861 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 7710Aは、薄膜、誘電体、酸化物、窒化物などの原子層材料の堆積に使用される高度で高性能な化学蒸着（CVD）反応器です。このツールは、ミクロおよびナノスケール上の材料の成長のために半導体業界で広く採用されています。AMAT 7710Aリアクターは、真空を破壊することなく、チャンバ間の自動固定およびウェーハ転送用に設計された2チャンバー水平CVDシステムです。それに熱分解カーボンライナー、管状の電極が付いている堅牢なステンレス鋼の内部の部屋および陶磁器のヒーター管が高純度、超低温度および高温CVDプロセスを提供するあります。ウェーハプレートインレンジは、30mmから125mmまでの3つのウェーハ径と、1。2mmまでの厚いプロセスウェーハと0。300mmまでの薄膜基板を使用できます。APPLIED MATERIALS 7710Aには強力なマスフローコントローラがあり、10cmから1800cmの範囲のプロセスガスを正確に制御し、2つの水晶水晶窓を備えています。加熱されたチャンバー周囲は、ウェーハ全体に均一な温度制御を提供し、欠陥の少ない精密プロセスを実現します。また、薄膜用途のウェーハ熱管理の向上により、優れた応力制御を実現する温度ベースのガススイッチングを採用しています。7710Aはプログラム可能な調理法ソフトウェアが付いている十分に自動化されたCVDシステムです。この原子炉は、200℃ 900℃までの低温範囲を内蔵し、10Torrまでの高圧で動作することができます。優れた熱均一性、蒸着速度、エピタキシャル結晶性を提供します。モデル固有の機能により、処理の安定性と再現性が向上し、厳格なプロセス制御を維持しながら、所有コストの削減を実現します。内部液体冷却シールドは、蒸着プロセス中の放射およびノイズからユーザーを保護します。AMAT/APPLIED MATERIALS 7710A原子炉は、CVD技術を使用した多種多様な基板材料の高品質材料の信頼性の高い成長に適しています。このツールは、正確なプロセス制御、優れた欠陥、スループットの向上、および高収率を提供します。CVD法を活用することで、光電子、磁気、ディスプレイ、記憶装置の製造など、多様な用途の材料を作ることができます。