中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 60KO #9226836 を販売中
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ID: 9226836
ヴィンテージ: 2007
PECVD System
Gen 8.5
Maximum substrate size: 2200 mm x 2600 mm
(7) Process chambers with TSLL
Suitable for HIT/HJT cells application
2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 60KOは、半導体およびマイクロエレクトロニクス技術の先端材料およびコーティングの製造用に設計された特殊真空蒸着/反応スパッタリング装置です。このシステムは、高品質、高収率、再現性のある結果を生み出すために、蒸着反応を正確に制御するために構築されています。AKT 60KOは、高性能なPVD(物理蒸着)成膜ユニットです。この機械は、ガス流量を正確に制御するための調整可能なマスフローコントローラを備えたスパッタ蒸着源で構成されています。また、クリーンガスの供給を確保するために、再循環ガスろ過ツールも提供されています。このアセットは、高品質のターゲット材料蒸着と低ガス相不純物を実現するための重要な要素である調整可能な高真空の乱流抑制モデルも備えています。AMAT 60KOは、金属、セラミック、ダイヤモンドのような炭素を含む幅広い材料の堆積のために設計されています。また、反応性スパッタリングにも使用でき、幅広い材料を基板に堆積させることができます。蒸着速度を正確に制御するために、調整可能な電源装置が用意されています。このシステムにはオプションの反応ガス源も含まれており、スパッタリング過程でクリーンな蒸着チャンバを維持するために使用されます。蒸着チャンバ自体は、高いチャンバー清浄度を維持するように設計されています。内部はステンレス製で、耐久性のあるセラミックタイルが並んでいます。調整可能なガス注入ユニットにより、反応ガスまたは非反応ガスの流れを正確に制御できます。チャンバーには、任意のin-situ基板冷却機を装備して、堆積膜の品質を向上させることもできます。60KOには、ユーザーが特定のニーズに合わせて堆積プロセスを調整できる高度なソフトウェアインターフェイスも含まれています。入金のためのカスタムレシピをプログラムすることもできます。このツールはまた、堆積プロセスを容易に監視するための自動エンドポイント検出機能を備えています。APPLIED MATERIALS 60KOは、半導体およびマイクロエレクトロニクス技術向けの先端材料およびコーティングの製造用に設計された、高度で高性能なPVD/スパッタリング資産です。成膜プロセスの正確な制御、調整可能な高真空の乱流抑制モデル、高度なユーザーインターフェイスを可能にするさまざまな機能を備えています。この装置は、非常に低いガス相の不純物で高品質で反復可能な結果を提供するように設計されています。
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