中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 3500 #9380523 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 3500リアクターは、パターン化された半導体ウェーハと非加工半導体ウェーハの両方を処理するために設計された低圧、化学蒸着（CVD）装置です。このシステムは、ウェーハ表面に多種多様なドーパントや誘電体を堆積させ、電気的および物理的特性を向上させることができます。このユニットは、プロセスガス濃度の急速で制御された変化を可能にするQuartz Insertable Component （QIC）を搭載したホットウォールCVDチャンバーを備えています。これにより、さまざまな用途に適した多目的な層の堆積が可能になります。AKT 3500リアクターはまた、非常に均一で反復可能な蒸着prcessを提供する低乱流環境を備えています。高周波・RFデバイスや低温誘電体の加工に最適です。この機械には、温度範囲の50-800C、 0。1-10 torrの圧力範囲、および複数のプロセスガスバルブとマスフローコントローラを備えたガス処理ツールが装備されています。このアセットは、400mmウェーハと8インチのウェーハ構成で動作可能であり、高度な温度制御パッケージを装備することができます。AMAT AKT-3500炉は、さまざまな半導体製造用途において、使いやすく信頼性の高いモデルです。また、調整可能なフォーカスとオープンチャンバーの設計により、クロスコンタミネーションを低減し、粒子発生を防ぎます。また、高速で信頼性の高いOpen-Loop Stepper/Scannerを搭載しており、高スループット処理が可能です。シンプルなウエハコントロールオプションにより、複数のウエハレシピを同時に実行できます。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT AKT-3500リアクターは、半導体ウェハ上のドーパント、誘電体、およびその他の材料を堆積するための理想的なツールです。その高度な機能と堅牢な設計により、半導体加工に最適です。この機械は信頼性が高く、再現性が高く、使いやすいため、さまざまな半導体アプリケーションに適しています。