中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 3500 #9380519 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 3500は半導体製造事業で使用されるように設計された原子炉です。ウェーハなどの基板に高度なパターンを作成し、コストと効率を最小限に抑えることができます。AKT 3500は、従来のAKT 3000のアップグレード版であり、これまで以上に均一で精度の高い基板に薄膜を堆積させ、シリコン、ガラス、金属合金などの材料にこれらの膜を堆積させることができる特許取得済みのプロセスを備えています。原子炉内には、10-6 torr以下の真空レベルと10-9 torrまでの超高真空レベルが可能なチャンバーが内蔵されており、正確かつ正確なプラズマ処理が可能です。また、負荷ロックシステムや高温ゾーンオーブンなど、原子炉に追加できるオプションのアクセサリーもあります。AMAT AKT-3500には高度なプログラマブル制御システムも搭載されており、ユーザーはリアクタを特定のパラメータにプログラムすることができ、必要に応じてこれらのパラメータを調整することができます。また、蒸着プロセスをリアルタイムで監視し、結果が正確かつ一貫していることを確認する機能も付属しています。3500のプロセス品質は非常に顕著です。この原子炉は、10nm以下の線幅のパターンを生成するために使用することができ、最大25nmの解像度を処理することができます。また、精度の高い3D形状を作成する機能も備えています。さらに、原子炉の高いスループットと低い処理時間により、非常に費用対効果が高くなります。全体として、AKT AKT-3500は、異なる基板上に高度なパターンとフィルムを作成するための優れた原子炉です。高品質なプロセス、プログラム可能な制御システム、低い処理時間により、半導体製造部門にとって理想的なツールとなります。