中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 3500 #9380515 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 3500は、半導体構造の製造用に設計された先進的な低温PECVD（プラズマ強化化学蒸着）原子炉です。この原子炉は、より高いスループットと堆積の均一性の向上など、従来の堆積システムよりも大きな利点を提供します。AKT 3500は、2つの独立したカスケード付きRFソースを使用して、独立したジェネレータ制御を備えた高周波（HF）および調整可能なRF電源を生成する独自の2段階RFジェネレータシステムを内蔵しています。これにより、ユーザーは、ガス位相温度とターゲット材料の蒸着速度を正確に制御して、蒸着プロセスを構成および微調整することができます。AMAT AKT-3500は、堆積プロセスを容易にするために、様々な軸および放射状のガス注入器を備えた単層反応チャンバーを組み込んでいます。射出ゾーンの半径は調整可能で、ユーザーは堆積の均一性とスループットを最適化することができます。また、反応チャンバーにはピーク場の領域が組み込まれており、リアクタントの均一な分布とターゲット材料の効率的な均一な堆積を保証します。RFジェネレータと反応チャンバに加えて、AKT-3500は電源、制御、および診断システムの複雑な組み合わせを備えています。これらのシステムにより、原子炉環境を監視および調整して最適な性能を発揮しながら、材料のスループットと均一性を最大化できます。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT AKT-3500は、TMF（トルクモニタリングフィードバック）システムや低温プラズマガードなどの高度な安全機能も備えています。このガードは、チャンバー内部の危険な過熱ゾーンを防止しながら、最適なレベルでチャンバー温度を維持するのに役立ちます。全体として、AMAT 3500は高効率で直感的なPECVD炉であり、多くの商用半導体生産プロセスのニーズを満たすことができます。高度な2段RFジェネレータ、正確に設定可能な射出ゾーン、および統合された安全システムにより、スループットを最適化しながら材料の正確な沈着を保証します。APPLIED MATERIALS AKT-3500は、信頼性の高い汎用性の高いPECVDソリューションをお探しのお客様に理想的な選択肢です。