中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 1600 #9156161 を販売中
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ID: 9156161
PECVD Chamber
Front
Front Monitor: Ok
Back Monitor: Ok
Load port: Sensors, Cass plate
Signal tower: R,Y,G,W
Robot: ATM robot & Vacuum chuck
Slit door: Open
Laminar flow: Load port laminar flow
Wafer transfer module
Robot: No
Baratron gauge: No
Buffer door lift : Ok
Buffer Isolation valve: Ok
Buffer throttle valve: Ok
Cool chamber: Ok
Process module
CH# A RF Match: HMN302D
CH# B RF Match: Ok
CH# C RF Match: Ok
CH# D RF Match: No
CH# A Gate valve: No
CH# B Gate valve : AV-4.0-MOD
CH# C Gate valve: Ok
CH# D Gate valve: Ok
CH# A Throttle valve: 153F-4-100-2
CH# B Throttle valve: No
CH# C Throttle valve: Ok
CH# D Throttle valve: Ok
CH# A Heater lift: No
CH# B Heater lift: No
CH# C Heater lift: Ok
CH# D Heater lift: No
Controller Board: DI/O,AI/O : Ok
DC power supply: Ok
CH# A Baratron gauge: MKS
CH# B Baratron gauge :Ok
CH# C Baratron gauge : Ok
CH# D Baratron gauge : Ok
Regulator box
Span sensor: Ok
Manual v/v & Regulator: Ok
Gas panel
NF3: 2SLM
Ar: 300SCCM
NH3: 2500SCCM
N2: 5SLM
SiH4: 500SCCM
1%PH3/H2: 1SLM
H2: 3SLM
B2H6
System control rack
Interface board: DI / O, Seriplex, VME, CPU
DC power supply: Ok
Pump control module: Ok
Servo DC power supply: Ok
Main frame
Power rack
Generator
Chamber A RFPP RF20S: 2666
Chamber B RFPP RF20S: NPG2K10S005
Chamber C RFPP RF20S: No
Chamber D RFPP RF20S: No
Pump
Chamber A QMB500 + QDP80
Chamber B QMB500 + QDP80
Chamber C QMB500 + QDP80
Chamber D QMB500 + QDP80
TM pump QDP40
Load/Lock chamber QDP40
Scrubber:
Main scrubber CDO859
Back-up scrubber CDO858
Heatexchanger SPEED-7000
Missing and ETC parts :
ETC: Part step ( scaffolding ).
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 1600リアクターは、半導体用に設計された大規模な化学蒸着(CVD)システムです。薄膜材料や構造物を製造するための最先端の産業炉です。高度な成膜技術により、優れたシングルウェーハの均一性、優れたプロセス制御、信頼性の高い運用、および低コストの所有権を提供します。この原子炉には、基板温度、チャンバー圧力、ガスの流れ、および蒸着速度を正確に制御することができる熱電ガンアンプによって接続された高出力のガス冷却電子銃が装備されています。エッチカラーは粒子の汚染を低減し、金属ドラムをベースにした設計により、均一性と銅ベースの薄膜をさらに向上させます。この原子炉は、シリコンウェーハ、ヒ素ガリウム、石英、ガラス、酸化アルミニウムなど、直径152mmまでのさまざまな基板に対応できます。アルミニウム、銅、ニッケルなどの半導体金属から窒化ケイ素、酸化アルミニウムなどの誘電体まで、幅広い材料を加工できます。このシステムには、自動ソースチューニング、真空レベル制御、プラズマ診断、自動ガス供給、およびプロセスの合理化に役立つテストスクリプトなど、多くの高度な機能が装備されています。カラータッチスクリーンディスプレイと直感的なグラフィカルユーザーインターフェイス(GUI)により、ユーザーは実行中のすべてのパラメータを迅速かつ正確に監視できます。さらに、AKT 1600リアクターは、複数のロードロックチャンバー、並列プロセスチャンバー、サンプルの前処理と後処理のための大気モジュールなど、幅広いオプションでサポートされています。全体として、AMAT AKT1600 CVDシステムは、優れた均一性を備えた高品質で低コストの薄膜を製造することができます。高度な機能と使いやすいグラフィカルユーザーインターフェイスにより、優れた蒸着品質と信頼性を必要とするプロセスに最適です。
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