中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 1600 #9156161 を販売中

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ID: 9156161
PECVD Chamber Front Front Monitor: Ok Back Monitor: Ok Load port: Sensors, Cass plate Signal tower: R,Y,G,W Robot: ATM robot & Vacuum chuck Slit door: Open Laminar flow: Load port laminar flow Wafer transfer module Robot: No Baratron gauge: No Buffer door lift : Ok Buffer Isolation valve: Ok Buffer throttle valve: Ok Cool chamber: Ok Process module CH# A RF Match: HMN302D CH# B RF Match: Ok CH# C RF Match: Ok CH# D RF Match: No CH# A Gate valve: No CH# B Gate valve : AV-4.0-MOD CH# C Gate valve: Ok CH# D Gate valve: Ok CH# A Throttle valve: 153F-4-100-2 CH# B Throttle valve: No CH# C Throttle valve: Ok CH# D Throttle valve: Ok CH# A Heater lift: No CH# B Heater lift: No CH# C Heater lift: Ok CH# D Heater lift: No Controller Board: DI/O,AI/O : Ok DC power supply: Ok CH# A Baratron gauge: MKS CH# B Baratron gauge :Ok CH# C Baratron gauge : Ok CH# D Baratron gauge : Ok Regulator box Span sensor: Ok Manual v/v & Regulator: Ok Gas panel NF3: 2SLM Ar: 300SCCM NH3: 2500SCCM N2: 5SLM SiH4: 500SCCM 1%PH3/H2: 1SLM H2: 3SLM B2H6 System control rack Interface board: DI / O, Seriplex, VME, CPU DC power supply: Ok Pump control module: Ok Servo DC power supply: Ok Main frame Power rack Generator Chamber A RFPP RF20S: 2666 Chamber B RFPP RF20S: NPG2K10S005 Chamber C RFPP RF20S: No Chamber D RFPP RF20S: No Pump Chamber A QMB500 + QDP80 Chamber B QMB500 + QDP80 Chamber C QMB500 + QDP80 Chamber D QMB500 + QDP80 TM pump QDP40 Load/Lock chamber QDP40 Scrubber: Main scrubber CDO859 Back-up scrubber CDO858 Heatexchanger SPEED-7000 Missing and ETC parts : ETC: Part step ( scaffolding ).
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 1600リアクターは、半導体用に設計された大規模な化学蒸着(CVD)システムです。薄膜材料や構造物を製造するための最先端の産業炉です。高度な成膜技術により、優れたシングルウェーハの均一性、優れたプロセス制御、信頼性の高い運用、および低コストの所有権を提供します。この原子炉には、基板温度、チャンバー圧力、ガスの流れ、および蒸着速度を正確に制御することができる熱電ガンアンプによって接続された高出力のガス冷却電子銃が装備されています。エッチカラーは粒子の汚染を低減し、金属ドラムをベースにした設計により、均一性と銅ベースの薄膜をさらに向上させます。この原子炉は、シリコンウェーハ、ヒ素ガリウム、石英、ガラス、酸化アルミニウムなど、直径152mmまでのさまざまな基板に対応できます。アルミニウム、銅、ニッケルなどの半導体金属から窒化ケイ素、酸化アルミニウムなどの誘電体まで、幅広い材料を加工できます。このシステムには、自動ソースチューニング、真空レベル制御、プラズマ診断、自動ガス供給、およびプロセスの合理化に役立つテストスクリプトなど、多くの高度な機能が装備されています。カラータッチスクリーンディスプレイと直感的なグラフィカルユーザーインターフェイス(GUI)により、ユーザーは実行中のすべてのパラメータを迅速かつ正確に監視できます。さらに、AKT 1600リアクターは、複数のロードロックチャンバー、並列プロセスチャンバー、サンプルの前処理と後処理のための大気モジュールなど、幅広いオプションでサポートされています。全体として、AMAT AKT1600 CVDシステムは、優れた均一性を備えた高品質で低コストの薄膜を製造することができます。高度な機能と使いやすいグラフィカルユーザーインターフェイスにより、優れた蒸着品質と信頼性を必要とするプロセスに最適です。
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