中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 0100-01321 #293657574 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 0100-01321は、半導体ウェーハなどの超薄型材料を処理するために設計された原子炉です。選択した材料の薄い層を制御された速度でウェーハに堆積させるために使用されます。これは半導体プロセスの重要な部分であり、蒸着プロセスの品質を保証するために正確で信頼性の高い機器が必要です。AMAT 0100-01321は、半導体産業の要件を満たすように特別に設計されたマルチステーション化学蒸着（CVD）原子炉です。応用材料0100-01321は高度CVDプロセス部屋およびシステムが装備されています。CVDの原子炉は400°Cから1000°Cに及ぶ高温機能があります。この温度範囲により、所望の材料特性が達成され、プロセス全体で品質管理が維持されます。さらに、CVDユニットは高度なプロセスコントロールソフトウェアを使用して、堆積プロセスのパラメータを継続的に監視および調整します。これにより、最終製品のより高いレベルのプロセス安定性と一貫した材料特性が保証されます。0100-01321はまた成功した沈殿を保障するためにいろいろ用具および付属品が装備されています。これらには、蒸着プロセスを支援するために使用されるガスの供給と、原子炉室を介してウェーハをサイクルするための真空ポンプが含まれます。さらに、CVDリアクターは、最先端のプロセス分析と制御を可能にするリアルタイムモニタリングマシンを内蔵しています。最後に、高速で信頼性の高い材料の読み込みとアンロードのための自動スクラッチフリーウェハハンドリングツールが含まれています。要約すると、AMAT/APPLIED MATERIALS 0100-01321は、信頼性の高い正確な蒸着プロセスを提供する最先端のCVD炉です。高温範囲、高度なソフトウェア、さまざまなツールやアクセサリを備えたAMAT 0100-01321は、半導体業界にとって理想的な選択肢です。