中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 0040-48594 #293662758 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 0040-48594は、薄膜や他のナノ材料の成長のために設計された高性能リアクターです。この原子炉は、物理蒸着（PVD）、化学蒸着（CVD）、原子層蒸着（ALD）など、さまざまなプロセスを実行することができます。この原子炉の設計により、幅広い温度、圧力、ガスの組み合わせが可能になり、その中で育ったフィルムや材料に最適な結果が得られます。AMAT 0040-48594原子炉は、室温で動作する3室の原子炉です。3つのチャンバーは、蒸着チャンバー、真空チャンバー、ソースチャンバーです。原子炉は1つの大気の圧力の下で真空で動作し、その内部は約800°Cの温度に加熱されます。成膜チャンバーは、応用材料0040-48594の中心要素です。これは、原子炉が行うことができる多くのプロセスの1つを介して、フィルムや材料が堆積したり、成長したりする場所です。PVDプロセスは、原子炉で最も一般的に使用されるプロセスです。PVDは、その中で成長したフィルムや材料の光学的および電気的特性を向上させるのに優れています。蒸着チャンバよりもわずかに小さく、蒸着プロセスに使用される蒸気および揮発性化合物が生成される場所です。蒸気と化合物は、ガス注入ポートを介して蒸着室に供給されます。真空チャンバーでは、ガスはポンプで送り出され、圧力は1つの大気で維持されます。0040-48594は、薄膜エレクトロニクスや製造、ナノ材料合成、医療用インプラントやデバイスのコーティングなど、幅広い用途で使用できる汎用性の高い原子炉です。原子炉の温度範囲は、さまざまな材料を成長させるのに十分な範囲であり、その幅広いガスを扱う能力は、基板材料の広い範囲を可能にします。AMAT/APPLIED MATERIALS 0040-48594は、ユーザーが高品質で一貫したフィルムと材料を自分のプロジェクトのために成長させることができる高性能リアクターです。