中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 0020-20676 #9141100 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 0020-20676は、優れた蒸着均一性、高スループット、および優れた適合性を提供する低圧CVD炉です。半導体エッチング、窒化物エピタキシー、グラフェン製造、スペーサー層の蒸着など多彩な用途に対応し、高品質な薄膜の蒸着に最適です。AMAT 0020-20676原子炉装置は、毎回信頼性の高い反復可能なプロセスを保証するために、さまざまな機能を提供します。最大出力4。2キロワットの高性能な内部三相電源を備え、毎分300°Cまでの調節可能な加熱速度を提供します。また、ロープロファイルチャンバー窓を備えた効率的な石英チューブ設計により、高い蒸着率と均一な蒸着率を実現しています。さらに、APPLIED MATERIALS 0020-20676には、ガスの流れ、圧力、温度を正確に制御できる流体管理システムが搭載されています。流体ユニットの独自の設計により、薄膜蒸着プロセスや真空および超臨界処理に最適です。さらに、高度な温度均一性制御ツールも備えており、処理体積全体にわたって均質な温度を保証します。原子炉は最適な安全のために設計されており、任意のパラメータが安全限界を超えた場合に作動する自動安全シャットオフ機能を備えています。さらに、原子炉は高度な材料沈着検出技術を使用して設計されており、リアルタイム監視により、プロセスが所望の動作パラメータ内にとどまることを保証します。全体として、AMAT 0120-20676リアクターは、多種多様な薄膜蒸着プロセスに最適です。高度な機能、優れた性能、安全性を備えたこの汎用性の高い資産は、信頼性の高い反復可能な結果を提供することができます。さらに、ユニバーサルクォーツチューブ設計により、この原子炉モデルは多くのプロセスや基板に適応することができ、あらゆる蒸着ニーズに対応する信頼性と汎用性の高い選択肢となります。