中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-81422 #293664188 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-81422は、モーションコントロールの専門家であるAMATによって設計および開発された高温化学蒸着（CVD）原子炉です。この強力な原子炉は、窒化ガリウム（GaN）、リン酸インジウム（InP）、アルミニウムガリウム（AlGaAs）などの化合物半導体材料を含むさまざまな薄膜およびヘテロ構造材料のプロセス開発および生産に特に有用である。この汎用性の高い装置は、2インチのチャンバーを備えているため、幅広いウェーハ形状に適しており、最大450°Cの温度に対応するように構築されています。この堅牢で信頼性の高い原子炉装置は、最大6つのソース・ポートを備え、低乱流チャンバーからのリアクタントへのポンピング用のガス噴射およびマニホールド・システムを備えています。これにより、調節可能な蒸着速度、パルス蒸発器、コバポレーターなど、幅広いプロセス条件を材料蒸着に使用できます。さらに、各ポートにはマスフローコントローラと作動バルブが装備されており、チャンバを通過するガスの流れを正確に制御できます。また、排気ガスは、安全上の理由から一定のレベルを超えてはならないため、コンピュータの助けを借りて規制されています。また、先進的な制御ユニットを備えているため、プロセスの迅速かつ容易なセットアップ、実行開始、結果のリアルタイム監視が可能です。このユーザーフレンドリーなマシンは、圧力、機能、温度などのツールの関連パラメータを表示するタッチスクリーンパネルで構成されています。また、信頼性の高いリアルタイムフィードバックを提供し、一貫性のある反復可能なプロセスを実現します。統合された熱電対とファン制御により、プロセス温度範囲をさらに精密に制御できます。AMAT 0010-81422原子炉は、半導体産業の金属-有機化合物からの材料を迅速に開発し、生産することができます。高められた安全および高度の制御システム、高い部屋の温度および広い特徴の配列によって、このコンパクトでありながら強力な原子炉は超大型統合（ULSI）および混合半導体の処理の適用にとって理想的です。