中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-81296 #293809265 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-81296は、半導体用に設計された真空プラズマエッチング炉です。この原子炉は誘電体バリア無線周波数（RF）プラズマ源を駆動し、半導体基板に材料の層をエッチングするために使用されます。このユニットは、ターボ分子ポンプを使用して、薄膜のエッチングおよび成膜のための低圧および高温を実現します。低圧は基質に存在する誘電層の高い完全性のために有益である。原子炉には、基板をチャンバの上部を通してロードできるようにする入力窓を備えた円筒チャンバがあります。基板は、チャンバーの両端に配置された電極によって加熱されます。RFソースは、必要に応じてエッチング環境を作成するためにチャンバー内のプラズマを生成します。RFパワーは、所望のエッチング率を達成し、エッチング効率を高めるために調整することができます。原子炉には、ユーザーがチャンバー内の温度、圧力、および電力レベルを監視することができるデジタルディスプレイが装備されています。このチャンバーには、リアクタントガスの正確な制御を可能にするガス供給システムもあります。これにより、基板への最適な材料沈着が可能になります。このユニットには、チャンバー内の危険ガスの存在を検出できるガス監視システムも含まれています。有害ガスが検出された場合、システムは自動的にシャットダウンします。プラズマリアクターは、必要に応じて自動的に動作するようにプログラムすることができます。これにより、エッチング処理の精度と再現性が向上します。プログラミングはまた異なった基質および材料の組合せのためのエッチングの調理法をカスタマイズするのに使用することができます。AMAT 0010-81296原子炉は、最高の効率と精度で品質のエッチング結果を生成するように設計されています。高度な機能により、半導体加工アプリケーションに最適です。