中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-36162X #9075362 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36162Xは、ガラス、シリコン、金属、セラミックなどの基板上の薄膜の物理蒸着に使用されるUHV蒸発/スパッタリング反応器です。これは、LMS真空システムなどの標準的なクラスL真空システムでの使用のために設計されています。AMAT 0010-36162Xは、6。7x10-7 torrから1x10-2 torrまでの基本圧力範囲を持ち、電気伝導性、絶縁性、光学、またはバリアフィルムを形成するために使用できます。応用材料0010-36162Xは、粉末状、粒状、またはフレーク状の蒸発材料で抵抗加熱を利用します。その蒸化器の部屋は金によってめっきされる銅から成っている土台の据え付け品が付いているステンレス鋼で、構成されます。アンテナレールサポートやスロットカバーには陽極酸化アルミニウムを使用し、放射線シールドにはPTFEコーティングマイラーを使用しています。アンテナレールサポート用のアンテナキャリアとセラミックスは、BN、 Y-ZrO2、 AlNなどの耐食材料でできています。また、複数の水晶モニターポートを備えているほか、水晶膜厚監視セルまたは非破壊音響モニタリングシステムを使用するオプションもあります。0010-36162Xには、スパッタ成膜用のマグネトロンとイオン銃もあります。マグネトロンスパッタリングガンは、真空環境でバイアスされたコイルと交互に作製された可動磁場を使用して安定した均一なフィルムを提供します。マグネトロンガンはターゲットの形で材料に供給され、DC電圧で給電されます。一方、イオン銃はイオンを用いて目的の基板に原子を発射します。マグネトロンとイオンガンの両方が高真空または低真空アプリケーションでの使用に適しており、望ましい蒸着厚を達成するためにプログラムすることができます。最後に、AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36162Xには、ユーザーがプロセス条件を監視し、蒸着速度を自動制御できるプロセスソフトウェアが含まれています。また、さまざまなパラメータ設定を提供し、ユーザーは特定の堆積要件を満たすためにプロセス条件を調整することができます。組み込みの安全機能により、製造プロセスが安全かつ効率的に行われるようになります。全体として、AMAT 0010-36162Xは、実験室および製造環境において、高品質で一貫した薄膜成膜を作成するのに非常に役立ちます。これは、ユーザーがニーズに合わせてプロセス条件を調整できるようにするためのさまざまなコンポーネントと設定、および堆積パラメータを監視および制御するためのプロセスソフトウェアを備えています。安全機能は、安全で効率的な堆積環境を提供するのにも役立ちます。