中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-36162R #9075360 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36162Rは、高度な半導体製造に使用される原子炉の一種です。これは、AMAT独自の乾式蒸気エッチングシステムであるVersalinxエッチングリアクターです。このシステムは、フロントエンドおよびバックエンドICおよびMEMSアプリケーションの両方で、アルミニウムとシリコンエッチングの両方で使用するように設計されています。Versalinxのこの特定のモデルには電気バイアスが装備されており、さまざまなエッチング化学に対応することができ、非常に汎用性があります。AMAT 0010-36162Rは、20ナノメートルと1ミクロンの間の特徴を優れた深度制御でアルミニウムとシリコンの両方にエッチングすることができます。このサブシステムは、信頼性の高いサブシステムのプロセス制御機能により、高い材料除去率、精密エッチング結果、優れた表面品質を提供します。単層または多層のエッチングが可能で、デバイスの機能サイズは20ナノメートル未満です。エッチプロセスの設定は簡単に設定できます。Versalinxのコンポーネントはサーボモータ駆動で、高精度です。圧力と温度は、バイアス電圧と電力と同様に調整可能です。さらに、最大電力を調整し、電界を向けることができ、異なるサンプルからのエッチングレートを一致させるのに役立ちます。さまざまなエッチングケミストリー用にセットアップをカスタマイズできるため、ディープシリコンエッチングプロセスや重要な1xおよび2xウェーハエッチングに最適です。Versalinxエッチングリアクターは、正確な対称パターンを持つチップの処理に最適です。その高エッチング率と優れた深度制御はまた、タングステンエッチングだけでなく、他の重要なポストデポジションプロセスに最適です。また、アルミニウムやチタンなどの金属などの様々な材料にも対応可能です。このシステムは、チャンバーの均一な避難のためのロードロックを採用し、サンプル位置のエッジビードレールコントローラを備えています。この機能は、全体的なスループットとエッチングプロセスの優れた制御に貢献します。結論として、APPLIED MATERIALS 0010-36162Rは、幅広いエッチング用途に適した最高級のエッチング炉です。それに優秀な材料の取り外しおよび深さ制御機能があり、異なったエッチングの化学薬品のために非常にカスタマイズ可能です。20ナノメートル以下のサイズまで特徴をエッチングすることができ、深度の高いシリコンエッチングとポストデポジションプロセス用のタングステンエッチングを可能にします。堅牢な設計、信頼性の高いサブシステムのプロセス制御、優れたスループットにより、高度な半導体製造に最適です。