中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-36162 #9075364 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36162は、超高純度、多結晶シリコンフィルムの最高品質の成長を半導体産業に提供するように設計された垂直低圧化学蒸着（LP-CVD）原子炉です。そのユニークな機能は、利用可能な最も汎用性の高いLP-CVDリアクタの1つになります。AMAT 0010-36162リアクターは、垂直水晶チューブホットゾーンを有し、単一および複数のウェハの両方に対応することができます。この原子炉は高度なフラットバンド加熱システムを備えており、一貫した温度プロファイルを提供し、垂直ウェハと水平ウェハの両方で均一な薄膜成長をもたらします。このシステムはまた、高効率のフィルム成長のための調整可能な流量と簡単なチャンバーアシスト制御を備えています。さらに、可変周波数パワードライブとデータロギング機能も利用可能で、プロセスの正確な再現性を実現します。また、ウィンドプロセスチャンバーも備えており、ユーザーは蒸着プロセスをリアルタイムで表示することができます。この原子炉には、蒸着速度と膜均一性を測定するための動的分光計が内蔵されています。さらに、高度なN2O管理システムは、堆積プロセス中の粒子レベルを低減するように設計されており、廃棄物が少なく、収率が高くなります。加えて、応用材料0010-36162は長い寿命の信頼できるLP-CVD炉です。クォーツチューブホットゾーンは、より長い寿命と高い温度能力のために設計されており、最も困難な成長条件の要求を満たすことができます。高度な電気およびガスシステムは、メンテナンスの少ない最大効率のために設計されています。要約すると、0010-36162は、半導体産業に多結晶シリコンフィルムの均一で高品質な成長を提供するように設計された信頼性の高い効率的なLP-CVD炉です。その特徴は、最も汎用性の高い先進的なLP-CVDリアクタの1つです。