中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-21246 #9378778 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-21246原子炉は、高度な研究および生産アプリケーションのための基板上に薄膜を堆積するために設計された洗練された装置です。原子層成膜（ALD）、物理蒸着（PVD）、低圧化学蒸着（LPCVD）、超高真空（UHV）など、さまざまなプロセスで使用できます。原子炉の外装はステンレス製で、蒸着工程用の真空装置を備えた絶縁室を備えています。高度なプロセス制御（APC）システムは、圧力、温度、流量などの選択されたプロセスに必要なパラメータを制御するために使用され、ユーザーフレンドリーなインターフェイスで操作をリアルタイムで監視します。原子炉内部は、ALDまたはCVD用の前駆材料の正確な配送と、PVDプロセスにおける堆積アークの作成を可能にするメカニズムで構成されています。蒸着用に設計されたノズルには、CVDプロセス用のマルチポートまたはALDプロセス用のシングルポートの2つの構成があります。基材やサイズに応じて、均一な成膜を保証するために回転または非回転基板ホルダーを使用することができます。AMAT 0010-21246原子炉には、パルス電子ビーム源、質量分析計、加熱ポンピングユニット、自動ガスバッファ装置などのさまざまな装置が装備されています。これらの機能により、基板の温度やプロセスで使用されるガスの圧力と流れなどの動作条件をユーザーが制御できます。この原子炉は、最終的にはフィルム成膜用の効率的で正確な機械であり、高度なプロセス制御ツールの助けを借りて素早くパラメータと操作を調整できるため、大きな柔軟性を提供します。機械の複雑な部品は、高い反復可能な均一性と基板への優れた接着性を有する薄膜の製造に最適です。