中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-12516 #293651608 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-12516は、さまざまな用途向けに設計された超高真空化学蒸着（CVD）原子炉です。ナノ材料を含むほとんどの半導体および先端材料薄膜蒸着プロセスに適しています。この装置は、成膜プロセスの均一性、プロセス速度の向上、基板上の温度分布の向上を可能にする、改良されたチャンバー設計を備えています。また、ベースとカバー部品の間の永続的な接触を維持するユニークな機械クランプ機構を備えており、装置の性能を向上させるための最大のガス流量を可能にします。また、C-DSFポンプシステムには、65リットル/秒イオンポンプが2つ、100リットル/秒ターボ分子ポンプが装備されており、必要な高速圧力の低下と安定化を実現しています。このユニットは多数のプロセスパラメータで設計されており、それぞれがプログラム可能であり、高度に調整可能で柔軟性があり、ユーザーは特定の要件に合わせて出力を調整することができます。原子炉間の自動洗浄を可能にするオートパージ機能を搭載し、最先端の高精度測定により正確な結果を得ることができます。安全性と保護の観点から、AMAT 0010-12516は厳格な安全基準で設計されています。操作中のプロセス領域へのアクセスを防止するインターロックマシンが付属しており、安全性とパフォーマンス状態をリアルタイムで監視できる診断ツールも備えています。さらに、このアセットには、内蔵の圧力および温度センサー、および潜在的な問題を検出するために使用できるモデルのパワーモニターが装備されています。全体として、APPLIED MATERIALS 0010-12516は、高度で信頼性が高く、効率的な超高真空化学蒸着（CVD）炉であり、さまざまな薄膜蒸着要件に適しています。