中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09933 #293651951 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09933は、先進的な半導体材料とデバイスの生産のために設計された最先端の原子炉技術です。この原子炉は、ガス相原子蒸着（AVDP）技術を使用して、ナノ粒子を正確な制御で基板に堆積させます。これらのコンポーネントは驚くべき性能特性を示し、多くのアプリケーションにとって非常に価値があります。AMAT 0010-09933原子炉は、独自の爆撃プロセスを利用した低温低圧蒸着チャンバであり、堆積した材料の成長率を高めるのに役立ちます。これにより、他の蒸着システムと比較して最大5倍の高速な蒸着速度が得られます。この原子炉には効率的なプロセスゾーンがあり、均一な濃度と厚さの制御が可能です。これらの機能はすべて、この原子炉を市場で最も効率的なものにするために集まっています。応用材料0010-09933原子炉は、銅、アルミニウム、チタン、タンタル、およびその他の金属、ならびにシリカ、ミクロンスケールのセラミック粒子、ナノファイバーなどの非金属材料を含む多くの堆積物および用途向けに設計されています。独自のAVDP成膜プロセスは、均一な粒子サイズや形状制御などの優れた性能特性を提供し、成膜プロセスに対する高度な制御を可能にします。これらの機能は、さまざまな業界やアプリケーションのユーザーによって高く評価されています。リアクターはオープンソースソフトウェアプログラムを使用しており、ユーザーはリアルタイムでパラメータと条件を監視および管理できます。これには、温度、圧力、流量などのユーザー定義のパラメータと条件が含まれます。このレベルの制御により、蒸着プロセスが正確に、効率的に、そして高い信頼性で実行されることが保証されます。全体的に、0010-09933原子炉は、さまざまな堆積物に優れた制御、一貫性、効率を提供します。成膜プロセスは高速かつ正確で、優れた性能特性を提供し、さまざまな産業および商業環境での使用が承認されています。先進的な設計と数多くの利点を備えたAMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09933原子炉は、市場で最も先進的な蒸着システムの1つです。