中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09416 #293770720 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09416リアクターは、半導体製造および研究における先端材料用に設計された生産スケールのマルチチャンバー処理装置です。薄膜材料のウェーハへの精密な成膜とポストアニーリングのために特別に設計されています。原子炉は、真空前処理、蒸着、ポストアニーリング、酸化、パージの5つの相互接続されたチャンバーで構成されています。真空プレトリートメントチャンバーは、ウェーハをロードし、処理システムを準備するためにチャンバー内の空気をポンプで送り出すために使用されます。沈着チャンバーは、シリコン、ホウ素、炭素などの反応元素で構成される活性ガスを注入する場所です。このガスは基板に向けられ、活性物質の薄い層が堆積します。ポストアニーリングチャンバーでは、堆積層はその均一性を確保するために熱処理を受けます。酸化チャンバーは、酸素が豊富な種を導入するために使用され、その特性を改善するために堆積した活性物質を情動化するのに役立ちます。最後のチャンバーであるパージングチャンバーは、ユニット後処理から不活性ガスを排出するために使用されます。この原子炉は、効率的かつ正確な動作のために、いくつかの特殊なコンポーネントを利用しています。これらには、制御用のオンボードコンピュータマシン、正確なガス分配のための調整可能なガス入出力ノズル、ホットカソード型イオン源、ガス注入ツール（GIS）、マルチチャンバーアクセスゲートバルブ資産が含まれます。これらのコンポーネントを組み合わせることで、プロセスの異なる段階での反応ガスの適切な分布を可能にし、各チャンバーの温度と圧力を厳密に制御することができます。この原子炉には、パラメータを監視および調整するための熱電対や圧力トランスデューサなどの多数のセンサも含まれています。AMAT 0010-09416は多目的で信頼性の高いモデルであり、完璧な品質の先端材料の均一な薄膜を製造することができます。モジュラー設計と慎重な校正により、半導体材料の激しい研究と生産規模の処理に最適です。