中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-04450 #9043624 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-04450リアクターは、半導体製造におけるエッチングおよび蒸着プロセス用に特別に設計されたターボ分子高真空成長装置です。このシステムは、ステンレス鋼から構築され、真空または大気圧のいずれかで動作する強力なUHVターボ分子ポンプを利用しています。UHVポンプはガスマニホールドによって補完され、最大6種類のガスを選択できます。選択されたガス（典型的には窒素、酸素、アルゴン）は、すべての蒸着およびエッチング工程のガス供給および圧力調節に使用されます。この原子炉は、10°C〜1202°C （50°〜2196°F）の電気炉で、実現可能な最高のプロセスウィンドウと温度均質性を実現するように設計されています。温度は、デュアルゾーンヒーター、ハロゲンオーブン、および不活性ガス除去ユニットの組み合わせによって維持されます。不活性ガス除去機は、真空チャンバー壁の酸化を除去するのに役立ち、非常に低い塩基圧力レベルを維持するのに役立ちます。AMAT 0010-04450原子炉はまた、粒子の汚染からプロセス機器を保護するように設計された統合された粒子収集および濾過ツールを備えています。単位は2つのモードの1つで作動させることができます；ドレンバルブまたはベルジャーチャンバー付き。排水弁は、ガスがフィルターを通過することによって作動し、ベルジャーチャンバーは、後で抽出することができる乾燥チャンバー内の粒子を収集します。原子炉には、エッチングと蒸着プロセスを容易にするための他のいくつかのシステムも含まれています。これらには、調整可能な電流を持つ電源、ガス供給マニホールド、およびオペレータがレシピ中にプロセスパラメータを正確に設定できるデジタルコントローラが含まれます。アセットにはエンドポイント検出とエミッタンス制御も含まれており、プロセスのパフォーマンスを最適化するのに役立ちます。全体として、アプライドマテリアルズ0010-04450リアクターは、高い精度と精度でエッチングおよび蒸着プロセスを実行するために使用できる強力で信頼性の高いツールです。このモデルは、最も要求の厳しい半導体製造プロセスをコスト効率よく効率的に実行し、可能な限り最高品質の製品を提供することができます。